Gebraucht VARIAN VIISta PLAD #9284877 zu verkaufen

VARIAN VIISta PLAD ist ein Ionenimplantator und -monitor, der entwickelt wurde, um eine fortschrittliche Dotierungssteuerung in der Halbleiterwaferbearbeitung bereitzustellen. Bei der Halbleiterherstellung ist die Ionenimplantation ein wesentlicher Schritt, der Ionen verschiedener Elemente strategisch in das Substratmaterial einbringt und dabei unterschiedliche Leitfähigkeitsstufen erzeugt, die für die Herstellung komplexer Halbleiterbauelemente erforderlich sind. VIISta PLAD ist ein vollautomatisches Gerät, das sowohl die Ionenimplantation als auch die Überwachung in einem einzigen Modul durchführen kann. Das System liefert präzise, wiederholbare, genaue und kostengünstige Ergebnisse und bietet Lastgrößen bis zu 4 "(100 mm) für vielseitige Produktionsanforderungen. Mit einer maximalen Strahlenergie von fast 1 MeV ist der VIISta in der Lage, komplexe, hochzuverlässige Geräte in eine Vielzahl von Substraten und Wafern zu implantieren. Darüber hinaus bietet VARIAN VIISta PLAD eine breite Palette an verfügbaren Einstellungen und Funktionen, so dass Benutzer den Implantationsprozess an bestimmte Anforderungen anpassen können. Das Gerät wird von einer PC-basierten Steuerungsmaschine mit offener Plattform für die einfache Implementierung spezialisierter Algorithmen angetrieben. Das VIISta verfügt auch über erweiterte Datenerfassungsfunktionen, um optimale Ergebnisse zu gewährleisten. Das Tool bietet eine Auswahl an Strahlströmen von 1nA bis 5mA und eine maximale Dosisrate über 1x1013 Ionen/cm2/min. Der gesamte Arbeitsbereich des VIISta wird von einer starren Sechseck-Strahllinie umschlossen, die einen optimalen Schutz vor Vakuumaustritt bietet. Eine integrierte Vakuumanlage zirkuliert saubere, gefilterte Luft im Arbeitsbereich, um Verunreinigungen während der Verarbeitung zu reduzieren. Dies hilft, konsistente, zuverlässige Ergebnisse bei der Dotierung verschiedener Substrate und Wafer zu erzielen. Das VIISta ist auch mit einem erweiterten Ionenquellpaket ausgestattet. Dazu gehört eine Mikrowellenquelle zur Erzeugung von Ionen und eine große Auswahl an wählbaren Gasen, aus denen Sie wählen können. Das Ionenquellenmodul bietet eine programmierbare Steuerung von Strahlstrom, Form und Punktgröße für jeden Implantatbetrieb. VIISta PLAD ist ein fortschrittliches, hochanpassungsfähiges Implantations- und Überwachungsmodell, das eine höhere Dosisgleichmäßigkeit und eine verbesserte Prozesskontrolle gegenüber anderen verfügbaren Systemen bietet. Es bietet Autoparametrisierungsfunktionen, die eine optimale Prozesscharakterisierung sowie eine Vielzahl anpassbarer Optionen gewährleisten, was es zu einer idealen Wahl für die fortschrittliche Verarbeitung von Halbleiterwafern macht.