Gebraucht CUSTOM Ion Beam Depostion #9140925 zu verkaufen
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ID: 9140925
Weinlese: 1987
System
Internal dimension: 41.5" x 27"
(1) Ion Tech MPS5001 power supply
(1) ION TECH 15cm ion beam gun
Substrate rotation system: Two sets at different coating distances. The upper is 3 planets of approximately 6.5" squares. The lower 3 planets of approximately 6" diameter.
(2) Crystal thickness monitors, one for each of the planetary tooling sets.
Sputtering Target: Max of 2 materials at a time, 10" x 10".
Materials previously used: TiO2, SiO2, HfO2, Si, Al203, B, Ta Cryopump and compressor have been removed. When unit was hooked up to pump and running, the pressure was 2x10-6 Torr and pump-down time was approximately 4 hours.
Valves and controls: Gas metering valves, mass flow controller.
Does not include: Cryopump and compressor or substrate heaters.
1987 vintage.
CUSTOM Ionenstrahlabscheidung (Ionenfräsen) ist ein Prozess, bei dem Ionen in einer Vakuumumgebung auf eine Substratoberfläche abgeschieden werden. Die Ionen werden aus einem Elektronenstrahl erzeugt, der in Richtung auf ein Zielmaterial im Substrat beschleunigt wird. Die Ionen bewegen sich dann mit Geschwindigkeiten bis zu mehreren hundert Kilometern pro Sekunde durch die in der Mahlkammer vorhandenen elektrischen und magnetischen Felder über das Substrat. Der Fräsprozess ist stark kontrolliert und ermöglicht eine Vielzahl von Anwendungen bei der Herstellung von nanoskaligen und/oder ultradünnen Folien und Materialien. Die Ionenstrahlabscheidung (IBD) ist im wesentlichen eine Form der physikalischen Dampfabscheidung (PVD), bei der ein von der Ionenmahlanlage bereitgestellter Ionenstrahl Material auf der Substratoberfläche abscheidet. Diese Methode der Abscheidung ist präziser und ermöglicht die kundenspezifische Abscheidung von Materialien auf zwei Arten. Die erste ist als ionengestützte Abscheidung bekannt, bei der die Ionen das Zielmaterial während seiner Abscheidung erregen, wodurch es leichter auf dem Substrat haften kann. Die zweite ist als ionenverstärkte Abscheidung bekannt, die die Abscheidungsrate aufgrund der erhöhten Dichte von Ionen und der erhöhten Diffusion von Strahlmaterial auf das Substrat erhöht. IBD-Systeme haben typischerweise einige gemeinsame Komponenten, wie eine Ionenquelle, Substrate, ein Abscheidekammervakuumsystem und eine Strahlerzeugungseinheit. Die Ionenquelle ist das Gerät, das den Ionenstrahl erzeugt. Dies ist typischerweise eine Hochspannungs-negative Ionenquelle. Die Substrate können beliebig viele Materialien sein, wie Metalle, Halbleiter, Gläser und Polymere. Die Substrate werden in die Vakuumkammer eingelegt, die dann auf nahe Vakuumniveaus gepumpt wird, um eine hohe Kontrolle des Abscheideprozesses zu ermöglichen. Die Strahlerzeugungsmaschine ist die Vorrichtung, die den Ionenstrahl zu den Substraten hin beschleunigt. Dieses Werkzeug verwendet typischerweise elektromagnetische Felder und/oder elektrostatische Fokussierelemente zur Steuerung der Strahldynamik. Sobald die Ionen das Substrat erreichen, werden sie eingebettet und bilden eine Nanoverbundwerkstoffschicht. Bei der Abscheidung handelt es sich um einen empfindlichen Prozess, der hinsichtlich der exakten Parameter wie Druck, Strom und Feldintensität genau überwacht wird. Die Dicke der abgeschiedenen Schicht kann genau gesteuert werden, ebenso die Anzahl der Schichten und die Abscheiderate. CUSTOM Ionenstrahlabscheidung ist ein vielseitiges Werkzeug für die Herstellung von CUSTOM Nanomaterialien, mit der Fähigkeit, benutzerdefinierte Schichten aus fast jedem Material zu erstellen. IBD kann Materialien für Anwendungen wie MEMS, optische und tribologische Komponenten sowie hochgeordnete Arrays von Molekülen bereitstellen. Dieser Prozess steckt gerade in den Kinderschuhen, da Forscher weiterhin mit CUSTOM Ion Deposition experimentieren und innovieren.
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