Gebraucht FEI DualBeam 835 #9160371 zu verkaufen

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FEI DualBeam 835
Verkauft
Hersteller
FEI
Modell
DualBeam 835
ID: 9160371
Wafergröße: 8"
Dual beam Focused Ion Beam (FIB) system, 8" Automated loadlock Motorized rotary tilt stage: -5° to 55° Magnum ion column for fibbing and searching Ultra high resolution mode for SEM imaging Gas injection: Platinum Delineation etcher XeF2 Etcher Operating voltage: 500 V to 30 kV.
FEI DualBeam 835 ist ein leistungsfähiges Ionenfrässystem, das einen fokussierten Ionenstrahl (FIB) und ein Rasterelektronenmikroskop (SEM) kombiniert. Dieses System wird für die Bildgebung, Nanofabrikation und Materialanalyse verwendet. Die FIB liefert einen energiereichen Breitstrahl von Ionen, der dann magnetisch auf eine Probe fokussiert wird. Anschließend wird die Probe mit dem Ionenstrahl gefräst und das erzeugte Material mit dem SEM analysiert. Die Ionen werden zwischen 10 und 70 kV beschleunigt, so dass eine Vielzahl von Frässtrategien verwendet werden können, die Sputtern, Siliziumätzen und Feinätzen umfassen. Das System verfügt auch über eine Vielzahl von Werkzeugen, die für den Mahlprozess verwendet werden können, wie eine Galliumionenquelle, eine Galliumflüssigmetallionenpistole und eine Heliumionenquelle. DualBeam 835 kommt mit einer leistungsstarken motorisierten Fliesenstufe, die das Fräsen von Proben bis 100 mm Durchmesser ermöglicht. Diese Stufe wird durch eine Tablette gesteuert, die Präzisionsfräsen und einfache Ausrichtung ermöglicht. Es verfügt auch über Dual-in-Plane-Elektronenbildgebung, die eine Abbildung sowohl topographischer als auch kompositorischer Merkmale ermöglicht. Die integrierte Kamera bietet eine Auflösung von bis zu 0,5 Nanometern pro Pixel. FEI DualBeam 835 verfügt auch über eine Vielzahl von Softwarepaketen zur Steuerung des Ionenstrahls, zur Verarbeitung von Daten und zur Analyse von Ergebnissen. Es ist kompatibel mit Windows, Linux und Mac-Betriebssystemen. DualBeam 835 bietet eine leistungsstarke Kombination aus Bildgebung, Nanofabrikation und Materialanalyse für Forschung und industrielle Anwendungen. Sein breiter Ionenstrahl, seine leistungsstarke Fliesenstufe und seine hochauflösenden Bildgebungsfunktionen ermöglichen es seinen Anwendern, mit Leichtigkeit eine Präzision im Nanoskalibereich zu erreichen.
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