Gebraucht FEI Helios NanoLab 400 #9232837 zu verkaufen

FEI Helios NanoLab 400 ist eine fokussierte Ionenstrahl (FIB) -Ausrüstung, die für nanoskalige Fräs-, Abscheide- und bildgebende Anwendungen optimiert ist. Es ist ein integriertes, Field Emission Gun (FEG) basiertes System, das für das kontrollierte Wachstum von dünnen Schichten, dielektrischen Materialien niedriger k und Nanostrukturen verwendet wird. Das Gerät kombiniert eine Inertgasfräskanone, die mit einem Hochgeschwindigkeitsmotor ausgestattet ist, mit einer Fräskammer, die für optimale Prozessergebnisse temperaturgeregelt ist. Helios NanoLab 400 bietet ein hohes Maß an Kontrolle für die Herstellung von Objekten und Funktionen mit einer breiten Palette von Abmessungen. Die Maschine ermöglicht die Herstellung von Nanostrukturen in einer breiten Palette von Materialien, wie Metallen, Halbleitern, Polymeren und Dielektrika. Sein Sondenstrombereich ist von 0,1 pA bis 400 nA einstellbar, was eine hochauflösende Abbildung mit einer lateralen Auflösung von weniger als 10 nm ermöglicht. Das FEI Helios NanoLab 400 ist mit hochauflösenden Abbildungsoptiken ausgestattet, darunter ein Elektronenstrahlmikroskop (EB), ein Sekundärelektronendetektor (SED) und ein Aperturdetektor (AD). Die EB-Pistole hat eine maximale Beschleunigungsspannung von 20 kV und kann großwinklige und kleinwinklige Streuelektronen erfassen. Die SED besteht aus einer Aluminiumplatte, die für die rückgestreute Elektronen-, Sekundärelektronen- und transmittierte Elektronenbildgebung verwendet werden kann. Schließlich bietet das AD die Fähigkeit zur Low-Angle-Imaging, mit einem Sichtfeld bis zu 0,5 μ m. Helios NanoLab 400 bietet fortschrittliche Funktionen für die Nanofabrikation, wie Richtfräsen. Mit einem Dynamikbereich von bis zu 500 keV ermöglicht die Fräskanone die Erfassung hochauflösender, nanoskaliger Bilder von inneren Strukturen, die für herkömmliche bildgebende Verfahren nicht zugänglich sind. Diese Fähigkeit eignet sich besonders zum Durchfräsen komplexer dreidimensionaler Merkmale von Bauteilen wie integrierten Schaltungen mit hoher Präzision und Genauigkeit. FEI Helios NanoLab 400 bietet auch erweiterte Funktionen in der Dünnschichtabscheidung und -abscheidung Messtechnik. On-Stage-Heizung, doppelte Heizeinstellungen und automatisierte Dünnschichtdicken-Kartierung stehen zur Verfügung, wodurch die Lage und Dicke dünner Filme während des Abscheideprozesses genau kontrolliert werden kann. Das Werkzeug unterstützt auch eine Reihe von multifunktionalen Abscheideprozessen, wie konforme Beschichtung, atomare Schichtabscheidung und Elektrostich. Helios NanoLab 400 bietet eine effiziente, vielseitige Plattform für Nanofabrikation, Dünnschichtabscheidung und Messtechnik. Die Kombination aus hochauflösender Bildgebung, Richtungsfräsen und Dünnschichtabscheidung ermöglicht die Herstellung hochwertiger Komponenten und Merkmale mit maximaler Prozessgenauigkeit und Kontrolle.