Gebraucht FEI Helios NanoLab 400 #9285570 zu verkaufen

FEI Helios NanoLab 400 ist eine Dual-Beam-Ausrüstung von Er/FIB, die in der Lage ist, Materialien bis in die Nanoskala genau abzuschleifen. Der Goldstandard fokussierter Ionenstrahl (FIB) und Elektronenstrahl (EB) Systeme, FEI Helios ist ein sehr gefragtes Ionenfrässystem. Unter Ausnutzung der gleichzeitigen Elektronen- und Ionenstrahlquellen kommen leistungsstarke Funktionen wie gekippte Probenumgebungen Standard, was die Fähigkeit für komplexere 3D-Ablationsszenarien erweitert; eine begrüßte Bezahlung für fortgeschrittene analytische und materialwissenschaftliche Projekte. Das Helios NanoLab bietet hervorragende Auflösungen, die an anderen Steuerungssystemen verbessert werden. Es ermöglicht eine größere x-y-Steuerung für scharfe Klarheit und ermöglicht akribische und präzise ultrafeine Fräsanwendungen. Mithilfe eines flexiblen optischen Pfades können verschiedene Detektoren gezielt geschaltet werden, um die Bildgebungsleistung und das Benutzererlebnis zu optimieren. Das NanoLab 400 verfügt auch über eine Röntgenfluoreszenz- (XRF) -Spektrometrie mit atomarer Auflösung, die eine schnelle und zerstörungsfreie Spurenelementanalyse ermöglicht. Präzisionsgenauigkeit und Gesamtabriebleistung machen Helios NanoLab 400 zur perfekten Einheit für Forscher und Wissenschaftler, die Präzisions-Nanobearbeitung durchführen. Mit ultrastabiler Elektronenoptik für qualitative Techniken wie MINT unterstützt der Helios große und kleine Forschungsprojekte gleichermaßen. Unter Verwendung der EB- und FIB-Strahlen als Inlaid auf demselben Substrat können Mikroskopisten je nach Probengröße höhere Auflösungen erzielen als je zuvor, was eine beispiellose Vergrößerungsleistung von bis zu einer Million Mal ermöglicht. Die Helios-Maschine ist aufgrund ihrer niedrigen Drift und eines fortschrittlichen Strahlüberwachungs- und Kalibrierwerkzeugs, das nahezu augenblickliche Korrekturen und ein Auflösungsverhalten auch beim hochenergetischen Fräsen ermöglicht, sehr begehrt. Für den Abrieb und die Analyse von Proben mit hohem Durchsatz bietet das FEI Helios NanoLab 400 eine unübertroffene Leistung aufgrund seiner Doppelstrahlsäule und Scheitelauflösungsraten unter 1 Nanometer und ist damit der perfekte Vorteil für Anwendungen wie Nanostrukturierung, Fräsen, Bildgebung und Analyse.