Gebraucht FEI Helios NanoLab 400 #9363526 zu verkaufen

FEI Helios NanoLab 400 ist eine leistungsstarke Ionenfräse, mit der Proben für die hochauflösende Bildgebung und andere Oberflächenanalysen vorbereitet werden können. Es verwendet eine Ionenstrahlquelle, um Material von der Oberfläche der Probe in einem kontrollierten, nahezu monatomischen Dünnungsprozess zu sputtern. Die Sputterpegel können angepasst werden, um die Entfernung der oberen wenigen Nanometer des Materials zu gewährleisten, ohne die zugrunde liegende Struktur zu beschädigen, die durch die Probengeometrie und die gewünschte Auflösung bestimmt wird. Das System bietet eine präzise und reproduzierbare Materialverdünnung bis zu 0,1 nm pro Tiefenschritt ohne Verschlechterung der Oberfläche. Helios NanoLab 400 kombiniert eine hochvariable Stufenbewegungseinheit und einen Kurs-/Feindetektor für genaue Probenpositionierung und -analyse. Die Abtaststufe kann in vier vordefinierten Positionen abgestellt werden, so dass die Maschine verschiedene Probenorientierungen und -größen verarbeiten und gleichzeitig eine hohe Positionswiederholbarkeit aufrechterhalten kann. Der integrierte Grob/Fein-Detektor ermöglicht es Benutzern, die Probe an vorbestimmten Stellen genau zu positionieren, was eine präzise Ausrichtung von Merkmalen auf der Probenoberfläche erleichtert. Das Tool bietet auch eine Reihe von Analysetechniken zur Bestimmung der Zusammensetzung und Orientierung des zerstäubten Materials. Die integrierte Beschleunigungsspannungsregelung bietet eine Reihe von Beschleunigungsenergien von 0,1 bis 2.0kV, so dass der Benutzer den Fräsvorgang auf die Probeneigenschaften und das Probenmaterial abstimmen kann. Das FEI Helios NanoLab 400 bietet zudem eine zusätzliche Funktion des Sauerstoffaktivierungsmoduls, mit dem die Probenoberfläche für eine höhere Bildauflösung aktiviert werden kann. Zusätzlich schaltet die integrierte Sicherheitsverriegelung bei unsicheren Bedingungen das Gut sicher ab. Insgesamt ist das Helios NanoLab 400 ein einfach zu bedienendes und hochentwickeltes Ionenfräsmodell, das eine präzise und reproduzierbare Verdünnung für hochauflösende Bildgebung und Oberflächenanalyse bietet. Es ist so konzipiert, dass es mit einer Vielzahl von Mustertypen, Größen und Orientierungen kompatibel ist. Es bietet auch mehrere Funktionen, um die Sicherheit zu maximieren und die Leistung zu optimieren.