Gebraucht FEI Helios NanoLab 450S #9268041 zu verkaufen

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ID: 9268041
Focused Ion Beam (FIB) system Electron source: SCHOTTKY Thermal field emitter STEM Resolution: 0.8 nm Ion source: Gallium liquid metal Running hours: 1,000 Landing voltage: SEM: 50 V - 30 kV FIB: 500 V - 30 kV SEM Resolution: Optimal WD: 0.8 nm at 15 kV 0.8 nm at 2 kV 0.9 nm at 1 kV 1.5 nm at 200 V With beam declaration Coincident WD: 0.8 nm at 15 kV 0.9 nm at 5 kV 1.2 nm at 1 kV Ion beam resolution at coincident point: Preferred statistical method: 4.5 nm at 30 kV Selective edge method: 2.5 nm at 30 kV Stage: Flipstage with in-situ STEM detector OMNIPROBE Sample extractor 5-Axis piezo motorized XY Motion: 100 mm Loadlock: Maximum 80 mm diameter Sample types: Wafer pieces TEM Grids Whole wafers: Up to 100 mm User interface: Windows GUI with integrated SEM FIB Gas Injection System (GIS) Patterning Imaging mode Detectors: ETD, TLD, ICE Chamber 1: Carbon C10H8 Chamber 2: Tungsten W(CO)6 Chamber 3: Platinum C5H4CH3Pt(CH3)3 Remote components: NESLAB ThermoFlex900 chiller XDS10i Pre vacuum pump ONEAC Transformer: 200V AC, Single phase APCO UPS: 100V AC, Single phase EDS Resolution: <30 nm on Thinned samples Does not include Hard Disk Drive (HDD).
FEI Helios NanoLab 450S ist eine Ionenfräsanlage, die eine unübertroffene Leistung für die präzise Probenvorbereitung bietet. Dieses System soll es Forschern ermöglichen, qualitativ hochwertigste Proben für die Rasterelektronenmikroskopie (SEM) und die Transmissionselektronenmikroskopie (TEM) zu erstellen. Es ist eine ideale Wahl für die Vorbereitung von Proben für die Bildgebung, Analyse und Geräteherstellung. Das NanoLab 450S verwendet eine einzigartige Kombination aus Ionenfräsen und lithographischen Techniken, um präzise Muster, elektrische Strukturen und mechanische Merkmale auf den Oberflächen von Proben zu erstellen. Der Ionenmahlprozess ist stark kontrolliert, so dass Forscher einheitliche und wiederholbare Ergebnisse erzielen können. Der 360 Grad rotierende Probenhalter ermöglicht es Benutzern, den Winkel des Ionenstrahls für die besten Ergebnisse zu optimieren. Das Gerät verfügt über eine Hochleistungs-Dual-Ionen-Strahlmaschine, die mehrere Basisspannungen (15-30 kV) und Strahlenergien (1-10 keV) unterstützt. Die Dual-Ionen-Strahlen ermöglichen es Forschern, komplexe Strukturen zu durchätzen und seltsam geformte Merkmale vorzubereiten. Darüber hinaus produzieren die Dual-Ionen-Strahlen weniger Wärme als herkömmliche Ionenfrässysteme, sodass Anwender Proben sowohl für SEM als auch für TEM schnell und genau vorbereiten können. Das Tool ist mit einem hochmodernen ContolPix™ automatisierten Musterbestandteil ausgestattet, das Musterdefinition, Maskenerstellung, Belichtung und Ionenfräsen automatisiert und es Benutzern ermöglicht, Muster schnell und präzise zu replizieren oder eigene benutzerdefinierte Masken zu definieren. Das Modell unterstützt auch eine Vielzahl von Lithographietechniken, einschließlich mehrstufiger Doppelbelichtung für 3D-Strukturen und Nanolithographie. Das NanoLab 450S bietet eine breite Palette von Optionen zur Steuerung des Ionenstrahlstroms und der Ätzrate, um bestmögliche Ergebnisse zu erzielen. Darüber hinaus ist die Ausrüstung entworfen, um Vibrationen zu reduzieren, um die Genauigkeit der Ätzergebnisse zu erhalten. Das NanoLab 450S verfügt auch über erweiterte Überwachungs- und Steuerungsfunktionen, die sicherstellen, dass der Prozess so sicher und kontrolliert wie möglich ist. Helios NanoLab 450S ist ein modernes, hochpräzises Ionenfrässystem, das eine beispiellose Leistung für die Probenvorbereitung bietet. Das NanoLab 450S ist mit seiner leistungsstarken Dual-Ionen-Strahleinheit, einer automatisierten Mustermaschine und fortschrittlichen Überwachungs- und Steuerungsfunktionen eine ausgezeichnete Wahl für Forscher, die Imaging, Analyse und Geräteherstellung von höchster Qualität erstellen möchten.
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