Gebraucht FEI Helios NanoLab 450S #9363521 zu verkaufen
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ID: 9363521
Dual beam SEM System
Electron source: Schottky thermal field emitter
Ion source: Gallium liquid metal, 1000 hours
STEM Resolution: 0.8 nm
SEM Resolution: Optimal WD
0.8 nm at 15 kV
0.8 nm at 2 kV
0.9 nm at 1 kV
1.5 nm at 200 V with beam decleration
Coincident WD
0.8 nm at 15 kV
0.9 nm at 5 kV
1.2 nm at 1 kV
Ion beam resolution at coincident point:
4.5 nm at 30 kV
2.5 nm at 30 kV
Stages:
Flipstage with in-situ STEM Detector
Omniprobe sample extractor
5 Axis all piezo motorized
100 mm XY motion
Loadlock maximum, 3"
Sample types:
Wafer pieces
Packaged parts
TEM
Grids
Whole wafers, 4"
Maximum sample size: 80 mm diameter
User interface:
Windows GUI with integrated
SEM
FIB
GIS
Simultaneous patterning
Imaging mode
GIS:
Carbon
Tungsten
Platinum
Accessories:
Chiller – NESLAB ThermoFlex 900
UPS
SCS10i Pump
Landing voltage:
SEM: 50 V - 30 kV
FIB: 500 V - 30 kV.
FEI Helios NanoLab 450S ist eine zweistrahlige Ionenfräse, die eine einzigartige Kombination aus hoher Präzision und Genauigkeit bietet. Dieses System bietet einen ultrapräzisen Fräsprozess, der für eine fortschrittliche Probencharakterisierung geeignet ist. Die Doppelstrahleinheit umfasst eine Ionenstrahlsäule, ein In-Column-Rasterelektronenmikroskop (SEM) und eine hochauflösende digitale Bildgebungsmaschine. Die Ionenstrahlsäule verfügt über Hochstrom, hohe Energie und hochauflösende Ionen, wodurch eine breite Palette von Probenmaterialien und -tiefen gefräst werden kann. Die in-column SEM-Stufe bietet Scannen und Bildgebung der Probe mit hoher Vergrößerung und Submikrometerauflösung. Darüber hinaus liefert das integrierte digitale Bildgebungswerkzeug sowohl In-Situ- als auch Post-Milling-Bildgebung der Probe, einschließlich stereooptischer Bilder und 3D-Rekonstruktion. Helios NanoLab 450S verfügt über eine breite Palette umfassender Beispielumgebungen und -funktionen. Es ist mit einer pneumatischen Probendrehstufe zum Rastern und Parallelfräsen, einer 20x Probenstufe mit feiner manueller Manipulation, einer automatisierten Positionspalette zum Probenladen und einer Palette für kundenspezifische Probenplatten ausgestattet. Das Asset bietet eine genaue Positionsauflösung von bis zu 0,5 μ m und ist sowohl großflächig als auch Tieffräsen fähig. Es verfügt auch über einen variablen Druck Probenkammer, die niedrigen Vakuum Fräsen für höhere Präzisionen bei niedrigeren Beschleunigungsspannungen ermöglicht. Darüber hinaus umfasst das Modell eine Dual-Ionen-Quelle, eine hochintensive Elektronenquelle (HE) und eine Doppelextraktions-Elektronenkanone zur optimierten Frässtrahlablenkung. FEI Helios NanoLab 450S ist für eine breite Palette von industriellen und akademischen Anwendungen wie Fehleranalyse, MEMS und Mikro- und Nanoproduktion sowie Probenvorbereitung für SEM, TEM und Metallographie konzipiert. Dieses Gerät bietet eine flexible und zuverlässige Fräslösung für verschiedene Fräsaufgaben in einer großen Auswahl an Materialien. Es wurde entwickelt, um eine hohe Produktivität mit minimalen Oberflächenschäden, zuverlässiger Wiederholbarkeit und hoher struktureller Treue zu erreichen.
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