Gebraucht FEI Helios PFIB #293817330 zu verkaufen

FEI Helios ist ein Hochleistungs-Ionenfrässystem, das verwendet wird, um ultraglatte Oberflächen auf einer Reihe von Materialien zu produzieren. Es ist ein hochmodernes System, das Hochdurchsatz und fortschrittliche Ionenfrästechnologie kombiniert. Beim Ionenfräsen wird ein fokussierter Ionenstrahl (FIB) verwendet, der auf eine Probenoberfläche gerichtet ist. Die Probe wird dann einem Beschuss von Ionen unterworfen, die Material physikalisch „abfräsen“, um unterschiedliche Oberflächenmerkmale zu erzeugen. Es kann glatte Formelemente unter 10 nm erzeugen und Formelementprofile erzeugen, die extrem einheitlich sind. Helios ist für kontrolliertes und präzises Ionenfräsen ausgelegt. Es verfügt über einen fortschrittlichen Prozess zur Entfernung aktiver Schichten, mit dem bis zu 8 Schichten mit einem einzigen Ionenstrahl gefräst werden können, während die Ionenarten in der Mitte der Mühle geschaltet werden. Dieses Verfahren ermöglicht die Verarbeitung unterschiedlichster Materialien und ermöglicht den Einsatz höherer Ionenenergien. FEI Helios verfügt auch über eine mehrachsige automatisierte Bühnensteuerung, die das Fräsen komplexer Geometrien ermöglicht. Die XY-Stufe ermöglicht ein flexibles Programmieren, und die zusätzlichen Z- und Rotationsachsen ermöglichen die Manipulation der Probennormalen und Neigungswinkel, um die gewünschten Fräsprofile zu erreichen. Das System ist mit einem schnellen Pumpprozess und fortschrittlicher Ablationsratenoptimierung ausgestattet, die höhere Ionenenergien bei gleicher Fräsgeschwindigkeit ermöglicht. Die Kombination aus hervorragender Leistung und Benutzerfreundlichkeit macht es zu einer idealen Wahl für eine Vielzahl von Ionenfräsanwendungen. Helios ist in der Lage, eine Vielzahl von Probentypen anzugehen, darunter Metalle, Polymere, Keramiken, organische und anorganische Materialien. Mit seiner fortschrittlichen Ionenmahltechnologie eignet sich FEI Helios für eine Vielzahl von Anwendungen, von der Dünnschichtabscheidung über die Substrataufbereitung bis zur Geräteherstellung. Es ist ein unschätzbares Werkzeug für die Anwendung wie Halbleiterherstellung, Datenspeicherung, MEM- und NEMS-Geräteherstellung und Nanomaterialsynthese.