Gebraucht FEI / MICRION 9500 #9210449 zu verkaufen

FEI / MICRION 9500
Hersteller
FEI / MICRION
Modell
9500
ID: 9210449
Focused Ion Beam (FIB) system, parts machine Source: Gallium ion source Resolution: 5 nm (Potentially up to 10nm) Image: Micro channel plate Analog channelling with 256 grey level for high contrast Gas injector: Tungsten (for deposition) Chlorine for (selective etching) XeF2 for (selective etching) Spare port for other gases Charge: Neutralization: E gun (Filament issue) Load / Unload: Fully automatic load lock Vacuum system: PFEIFFER Turbo pump system with fore pump Stage: 8” (6) Axes eucentric tilt stage Tilt: 0–60° Rotation: 360° (±180°) Spare parts included Power supply: 50 kV.
FEI/MICRION 9500 ist eine Ionenfräsanlage, die entwickelt wurde, um ultradünne Schichten von kryogen abgeschiedenen Proben für eine Vielzahl von Forschungs- und Industrieanwendungen zu ätzen, zu verändern und zu entfernen. Dieses System bietet eine präzise Kontrolle über die Parameter des Ionenbeschusses, einschließlich Einfallswinkel, Strom, Spaltspannung und Druck. Es ist für das schonende Ätzen von Bereichen so klein wie 10 nm oder größer, so dass es ideal für Elektronenmikroskopie, Materialcharakterisierung und wissenschaftliche Forschung. FEI 9500 verwendet einen Elektronenstrahl, um energetische Partikel zu erzeugen, um eine Probenschicht aus Material zu bombardieren und die Oberfläche zu erodieren. Die Steuerkonsole des Geräts ermöglicht die Einstellung verschiedener Parameter, einschließlich Energie, Druck, Spaltspannung und Einfallswinkel. Durch die Einstellung der Parameter kann der Benutzer die Flächenmenge einer zu bearbeitenden Probe sowie die Tiefe der ätzbaren oder anderweitig veränderbaren Oberfläche bestimmen. Der von der Maschine erzeugte Ionenstrahl ist elektronisch auf einstellige Angströme einstellbar. Es ist auch in der Lage, variable Ionen Geschützströme von 0.5mA bis 10mA, mit einer maximalen Schlagenergie von 0,9 Kiloelektron Volt (KeV). Außerdem kann der Auftreffwinkel des Ionenstrahls von 0 ° bis 80 ° eingestellt werden und der Druck in der Kammer wird durch eine Verstärkerpumpe geregelt. Die Vakuumkammer von MICRION 9500 ist in der Lage, bis auf 1 x 10-6 Torr zu drücken, was die genauesten Ätzverfahren ermöglicht. Darüber hinaus verfügt das Tool über einen Ultrahoch-Vakuum-Viewport, der eine vollständige bildgebende Ausstattung gewährleistet. Die WDS/EDS-Probenanalyse ist zusammen mit der manuellen bildgebenden Steuerung verfügbar. Insgesamt ist 9500 ein zuverlässiges, präzises Modell zum Ionenätzen und Bohren von Proben. Es bietet eine unübertroffene Kontrolle über die Bombardierungsparameter und eine einfach zu bedienende Konsole, um sicherzustellen, dass jede Oberflächenänderung sorgfältig und präzise ausgeführt wird. Diese Ausrüstung ist von unschätzbarem Wert für Forschung und andere wissenschaftliche Bemühungen, die eine genaue Kontrolle über das Ätzen empfindlicher Proben erfordern.
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