Gebraucht FEI / MICRION 9800 #9105620 zu verkaufen

FEI/MICRION 9800 ist eine hochmoderne Ionenfräsanlage, die entwickelt wurde, um eine präzise Entfernung von Strahlmaterial und komplexe Oberflächenbehandlungsmöglichkeiten für eine Vielzahl von Anwendungen bereitzustellen. Mit einem integrierten Ultrahochvakuumsystem und vielen Funktionen und Zubehör wie einer großen Ionenquelle, einer Waffeneinheit und seiner hochempfindlichen Ladungssteuerung für eine optimierte Strahlform kann es eine Vielzahl von Substraten mit ausgezeichneter Prozesssteuerung handhaben. Die Ionenquelle von FEI 9800 wurde entwickelt, um bei niedrigen Strömen zu arbeiten, um eine breite Palette von Strahl- und Ionenarten zu bieten, die für verschiedene Anwendungen geeignet sind. Die Elektroneneinschlag-Ionenquelle erzeugt Ionen der gewünschten Masse, Energie und Form, während eine Reihe von Filamenten, Linsen und Gittern den Strahl optimieren. Die Pistolenmaschine manipuliert den Strahl, indem sie den Strahl genau positioniert und die Punktgröße, den Fokus und die Form steuert. MICRION 9800 ist zudem hocheffizient und sauber, da es über ein sekundäres Elektronenunterdrückungsdesign und ein verbessertes Gaseinschlusskammerwerkzeug verfügt. Dies führt zu weniger Partikeln und Verunreinigungen in der Kammer, wodurch die Prozessausbeute erhöht wird. Darüber hinaus ist es mit einem integrierten Ultrahochvakuum-Asset, einem computergesteuerten Strahlmonitor und einer Touchscreen-Schnittstelle zur Steuerung und Datenerfassung ausgestattet. 9800 ist ein agiles und leistungsstarkes Ionenfräsmodell, das für Präzision und Vielseitigkeit in einer Vielzahl von Beschichtungs- und Fertigungsanwendungen entwickelt wurde. Es kann auf jedes Material angewendet werden, einschließlich Metalle, Polymere und Keramik und die Fähigkeit, Muster und Formen auf Materialien bis zu einer atomaren Präzision zu erstellen. Diese Ausrüstung ist zuverlässig, so dass Benutzer ihr gewünschtes Endprodukt mit wenig Versuch und Fehler sicher zu erreichen. Schließlich wird mit der überlegenen Strahlauslastung und Prozesssteuerung der Anlage eine Kosteneffizienz erreicht.