Gebraucht FEI / MICRION Vectra 986FC #293718111 zu verkaufen

ID: 293718111
Wafergröße: 8"
Focused Ion Beam (FIB) system, 8" Upgraded to IET / WDR System Circuit editor: 28 nm Ion mill column Acceleration: 50 keV Ion column resolution: 5 nm Bipolar power supply Laser interferometer stage, 8" Proprietary charge neutralization system (14) User defined apertures Pre-soak chamber (2) Gas Assisted Etching (GAE) stations Wafer holder, 8" Current monitor sample holder Tungsten metal deposition Hard Disk Drive (HDD), 500 G RAM Memory, 3400 Megabyte Gases: Chlorine / Bromine Xenon difluoride Siloxane (TMCTS) Oxygen Tungsten Display: Colour monitor, 21" Line resolution (1280 x 1024) Virtual apertures: (14) Beam currents Gas delivery system: Metal (Cl2) Dielectric (XeF2) (2) GAE Stations Penta / Tri nozzle configuration Dielectric deposition: Tetra Methyl Cyclote Trasil Oxane (TMCTS) Oxygen No IR cameras.
FEI/MICRION Vectra 986FC ist eine hochentwickelte Ionenfräsanlage, die für die präzise Materialabtragung und Oberflächenmodifizierung in den Bereichen Halbleiterherstellung, Materialwissenschaft und Nanotechnologie entwickelt wurde. Dieses fortschrittliche Werkzeug ermöglicht es Forschern und Ingenieuren, Submikron-Genauigkeit bei Fräs- und Polieraufgaben zu erreichen, was es zu einem wesentlichen Instrument für die Herstellung komplexer Strukturen mit hoher Präzision macht. Im Zentrum des FEI Vectra 986FC Systems steht eine Ionenstrahlquelle, die hochenergetische Ionen erzeugt, die typischerweise aus Argon oder Gallium bestehen, um die Oberfläche der Probe zu bombardieren. Diese Ionen spucken Material von der Oberfläche weg und entfernen selektiv Schichten, um präzise Muster und Strukturen zu erzeugen. Der Ionenstrahl kann in Bezug auf Energie, Winkel und Intensität fein gesteuert werden, so dass Benutzer den Fräsprozess an ihre spezifischen Anforderungen anpassen können. Eines der Hauptmerkmale von MICRION Vectra 986FC ist die erweiterte Bildverarbeitung und Targeting-Funktion. Das Gerät ist mit hochauflösenden Bildgebungswerkzeugen, wie Rasterelektronenmikroskopie (SEM) und fokussierter Ionenstrahl-Bildgebung (FIB) ausgestattet, die eine Echtzeit-Visualisierung der Probenoberfläche beim Fräsen ermöglichen. So können Anwender den Ionenstrahl genau positionieren und den Fräsfortschritt mit Sub-Nanometer-Auflösung überwachen. Darüber hinaus bietet Vectra 986FC eine Reihe von Fräsmodi und -techniken für verschiedene Materialien und Anwendungen. Anwender können zwischen Breitstrahlfräsen zur schnellen Materialentfernung über große Flächen oder fokussiertem Ionenstrahlfräsen für hochauflösende Musterung und detailliertes Skulpting wählen. Darüber hinaus unterstützt die Maschine kryogene Kühl- und ionenstrahlunterstützte Abscheidungsprozesse und erweitert ihre Fähigkeiten für vielfältige Materialbearbeitungsaufgaben. In Bezug auf Automatisierung und Benutzerfreundlichkeit ist FEI/MICRION Vectra 986FC mit ausgeklügelten Softwaresteuerungs- und Programmierschnittstellen ausgestattet. Benutzer können komplexe Fräsfolgen definieren, Parameter für die Bearbeitung von Ionenstrahlen festlegen und benutzerdefinierte Fräsrezepte für wiederholbare und zuverlässige Ergebnisse erstellen. Das Werkzeug verfügt auch über automatisierte Rückkopplungsmechanismen, um eine präzise Kontrolle über Frästiefe, Gleichmäßigkeit und Oberflächenqualität zu gewährleisten. Darüber hinaus ist FEI Vectra 986FC auf Vielseitigkeit und Skalierbarkeit ausgelegt, mit Optionen für zusätzliche Module und Zubehör, um seine Funktionalität zu verbessern. Dazu gehören Gasinjektionssysteme für das reaktive Ionenmahlen, In-situ-Probenvorbereitungskammern für die multimodale Analyse sowie Probenhalter für die Handhabung verschiedener Probengrößen und -formen. Das Asset kann mit anderen analytischen Werkzeugen wie der energiedispersiven Röntgenspektroskopie (EDS) und der sekundären Ionenmassenspektrometrie (SIMS) integriert werden, um eine umfassende Materialcharakterisierung und -analyse zu ermöglichen. Insgesamt zeichnet sich MICRION Vectra 986FC Ionenfräsmodell als modernste Lösung für hochpräzise Materialbearbeitung und Oberflächenmodifizierung aus. Seine erweiterten Funktionen, bildgebenden Funktionen und Automatisierungsfunktionen machen es zu einem leistungsfähigen Werkzeug für Forschung, Entwicklung und Fertigungsanwendungen in der Halbleiterindustrie und darüber hinaus. Durch die beispiellose Steuerung und Flexibilität in Ionenfräsprozessen ermöglicht Vectra 986FC es Anwendern, die Grenzen der Innovation in der Nanotechnologie und Materialwissenschaft zu erweitern.
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