Gebraucht GATAN 626 #293807575 zu verkaufen

GATAN 626 ist ein Hochleistungsgerät für Ionenfräsen, das eine einseitige, HF-vorgespannte, magnetisch abgeschirmte Edelstahl-Vakuumkammer verwendet. Das System bietet eine nanometergenaue Oberflächenbearbeitung in einer sauberen und inerten Atmosphäre. Die hohe Sputterrate von 626 führt zu einer schnellen Bearbeitung von Proben. Das Gerät verwendet eine einseitige Strahlmaschine mit einer Feldplattengeometrie, die fokussierte Ionenstrahlen zum Sputtern einer breiten Palette von Materialien verwendet. Ein weiteres Merkmal von GATAN 626 ist das „Dither-Werkzeug“, das die aktive Kompensation der Probenkippung und der Genauigkeit der Ionenfräsergebnisse ermöglicht. Der hochpräzise Betrieb von 626 wird durch die innovative Steuerung gewährleistet, die durch aktives Wärmemanagement im Ionenstrahlweg ein minimales Strahlablenk- und Strahlstromprofil liefert. Dieses Steuermodell bekämpft Probleme wie Gasionenmessung oder Falschgasmessungen, die häufig durch energiereiches Ionenbeschuss zu unerwünschter Leitfähigkeit auf der gefrästen Probenoberfläche führen. Diese Entfernung der Leitfähigkeit ist der Schlüssel für bestimmte Arten der Bearbeitung von Proben, da sie die Sterblichkeit von Strahlenschäden oder chemischen Kontaminationen drastisch reduziert. GATAN 626 verwendet Ionenoptiken und Linsen, um den Strahlstrom und die Strahlablenkung zu verwalten. Diese Linsen sind in der Lage, den Ionenstrahl von der Probenebene zur Bodenebene zu bewegen, was die Abweichung des Oberflächenprofils minimiert und somit qualitativ hochwertige Muster ergeben kann. Zusätzlich ist 626 mit einem Probenfutter ausgestattet, das einen statischen Vor-Ionen-Fräsmodus zur gleichmäßigen Entfernung des Zielgewebes verwendet, um Queramplitudenstörungen zu verhindern. Schließlich ist GATAN 626 eine leistungsstarke, kostengünstige Ausrüstung für das Ionenfräsen. Es bietet eine Reihe von Funktionen, die es ermöglichen, genaue Ergebnisse in einer sauberen und inerten Atmosphäre zu erzielen. Die hochpräzise Steuerung sorgt für eine minimale Strahlablenkung und Strahlstromprofil sowie minimale Oberflächenprofilabweichung. Die Dithereinheit verbessert die Genauigkeit weiter durch Kompensation der Probenkippung. Das Probenfutter bietet einen guten Vor-Ionen-Fräsmodus, um Interferenzen mit Queramplitude zu verhindern. Zusammen ist 626 eine ideale Lösung für die Oberflächenbearbeitung im Nanometermaßstab.