Gebraucht MICROBEAM Nanofab 150 #9032282 zu verkaufen
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ID: 9032282
Wafergröße: 6"
Direct write ion beam lithography system, 6"
GDSII
Integrated laser position stage
Minimal beam spot size: 20nm
Energy: 4 -150 keV (300 keV double ionization)
ExB Mass filter
M/deltaM ≥ 50
Liquid metal ion sources: Ga, Si, Ge, In, Be, Au, As, B, Pd, Bi
Beam current density: Up to 5A/cm2
Computer controlled
Stepper motor driven substrate state: 165mm x 165mm travel
1 nm Resolution laser position monitor
Upgrade options available:
Advanced sub 10nm ion optics
Stainless steel system with 10 Pallet load-lock (6" wafer only)
8" wafer handling (2 pallet load-lock only)
General System Upgrade (GSU): Includes vacuum, computer, data handling software, interferometer
Ion sources: 5A/cm Ga, Si, Ge, In, Be, Au, As, B, Pd, Bi sources
Ion guns
Advanced Performance Gun (APG) and source.
MICROBEAM Nanofab 150 ist eine Ionenfräse, die verwendet wird, um präzise und komplizierte Merkmale in Oberflächen von dünnen Schichten und Substratmaterialien gleichmäßig zu schaffen. Es verwendet einen Ionenstrahlfräsprozess - auch als Ionenstrahlätzen bekannt -, der einen Ionenstrahl verwendet, um das vorhandene Material oder Dünnfilm physikalisch abzuleiten. Das System arbeitet, indem ein hochintensiver Strahl von Ionen, in der Regel Argon, auf einem Substratmaterial bei einer Niederdruckatmosphäre eingeführt wird. Die Ionen bewegen sich in einem Lichtbogen von der Quelle zur Elektrode mit einer bestimmten Spannung. Die Ionen reißen, wenn sie mit dem Material kollidieren, Elektronen ab und weisen so das Material entsprechend den Benutzereinstellungen gleichmäßig oder mit einigen vorgegebenen Mustern ab. Die durch den Beschuss entstehenden Partikel und Materialdampf werden dann durch eine Vakuumpumpe von der Anlage abgezogen, wodurch keine potentielle Beschädigung des Substratmaterials gewährleistet ist. Die wichtigsten Vorteile der Maschine gegenüber anderen Fräsprozessen sind ihre hohe Präzision, Flexibilität bei der Auswahl der Quellen und ihre Fähigkeit, viele verschiedene Substratmaterialien abzutragen. Der durch den Einsatz dieses Werkzeugs erzielbare Genauigkeitsgrad eignet sich insbesondere für kritische Materialien oder zur Herstellung von Merkmalen mit komplexen Formen. Ferner kann der Benutzer je nach Einstellung auch mit einer gewissen Genauigkeit den Gleichmäßigkeitsgrad der Ablation bestimmen. Beispielsweise kann der Benutzer je nach Größe und Form des gewünschten Merkmals verschiedene Parameter wie die Ionenenergie oder Dosis auswählen. Als solches kann das Gut verwendet werden, um Merkmale verschiedener Formen wie rechteckige, kreisförmige, konische oder sogar Wabenmuster sowie Texturen verschiedener Größen zu schaffen. Nanofab 150 Modell bietet Anwendern eine hocheffiziente und präzise Möglichkeit, Substrate und dünne Folien mit höchster Präzision und Genauigkeit zu ätzen. Diese Ausrüstung ist extrem flexibel und anpassbar, so dass Benutzer die Geschwindigkeit, Ionenenergie und Leistung kontrollieren können, um eine genau gefräste Oberfläche zu gewährleisten. Darüber hinaus eignet es sich aufgrund seiner hohen Präzision ideal für den Einsatz in kritischen Materialien und die Herstellung komplexer, komplexer Merkmale.
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