Gebraucht MICROBEAM Nanofab 150 #9172653 zu verkaufen

Hersteller
MICROBEAM
Modell
Nanofab 150
ID: 9172653
Wafergröße: 8"
Direct write ion beam lithography system, 8" GDSII Integrated laser position stage Minimal beam spot size: 20nm Energy: 4 -150 keV (300 keV double ionization) ExB Mass filter M/deltaM ≥ 50 Liquid metal ion sources: Ga, Si, Ge, In, Be, Au, As, B, Pd, Bi Beam current density: Up to 5A/cm2 Computer controlled Stepper motor driven substrate state: 165mm x 165mm travel 1 nm Resolution laser position monitor Upgrade options available: Advanced sub 10nm ion optics Stainless steel system with 10 Pallet load-lock (6" wafer only) 8" wafer handling (2 pallet load-lock only) General System Upgrade (GSU): Includes vacuum, computer, data handling software, interferometer Ion sources: 5A/cm Ga, Si, Ge, In, Be, Au, As, B, Pd, Bi sources Ion guns Advanced Performance Gun (APG) and source.
MICROBEAM Nanofab 150 ist eine fortschrittliche Ionenfräsanlage, die für die Bearbeitung extrem kleiner und empfindlicher Oberflächen mit außergewöhnlicher Präzision entwickelt wurde. Das System nutzt einen fokussierten Ionenstrahl, der durch eine Säule geschickt wird, um atomares Füllen und Ätzen von Materialien bis zum Sub-Mikron-Niveau zu liefern. Dieser Prozess ist vollautomatisiert, d.h. er erfordert einen minimalen Benutzereingriff während des Betriebsprozesses. Die Einheit besteht aus drei Hauptelementen: der Ionenpistole, dem Gaskasten und der Prozesskammer. Die Ionenpistole besteht aus einer Ionenquelle, einem Beschleunigungsgitter und einer Kollimatorlinse. Die Ionenquelle muss mit dem zu bearbeitenden Material kompatibel sein, und das Beschleunigungsgitter und die Kollimatorlinse kombinieren, um einen kollimierten Ionenstrahl zu erzeugen; dieser Strahl kann dann fokussiert und genau auf den Arbeitsbereich gerichtet werden. Der Gaskasten dient zur Erzeugung einer kontrollierten Umgebung in der Prozesskammer; es beherbergt die Gasquelle und stellt eine Ebene zur Verfügung, auf der das Material platziert wird. Schließlich findet in der Prozesskammer der Fräs- und Ätzvorgang statt, da der Strahl mit dem Material auf der Gaskastenebene zusammenwirkt. Die Maschine erzeugt einen fein gesteuerten Ionenstrahl, der die Arbeitsmaterialschicht schichtweise genau anvisieren kann. Das Ergebnis ist eine präzise Ätzung von Sub-Mikron-Ordnung, die verwendet werden kann, um extrem komplexe Muster und Strukturen zu schaffen. Darüber hinaus kann diese Operation automatisiert werden und bei richtiger Programmierung komplizierte Muster mit großer Präzision und Geschwindigkeit erzeugen. Durch den Einsatz von Inertgasen wird auch sichergestellt, dass das Material durch das Verfahren selbst nicht beschädigt wird. Nanofab 150 ist ein sehr fortschrittliches Gerät, das für das genaue Fräsen und Ätzen von empfindlichen Materialien auf Submikron-Ebene entwickelt wurde. Es bietet ein hohes Maß an Präzision und Kontrolle für Ätz- und Mikrofabrikationsanwendungen. Das Tool ist vollautomatisiert und kann mit der richtigen Programmierung Zeit sparen und die Produktionsqualität und den Durchsatz erhöhen.
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