Gebraucht PHILIPS / FEI Strata 400 #9172655 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9172655
Dual ion beam system
Electron source: Schottky Thermal field emitter
Ion source: Gallium liquid metal
Image resolution: <0.8 nm achievable SEM-STEM Mode
Maximum sample size: 75 mm diameter
Loadlock compatible
PC
Power rack
Desk
Does not include EDS and chiller
Sample types:
Wafer pieces
Packaged parts
TEM Half-grids
Flip stage:
Removable row holder up to (6) TEM Grids
Total tilt range: >150°C
External load base: Loading / Unloading grids from row holder
In-situ section extraction system
SEM-STEM Detector:
Multi-region:
Bright field
Dark field
(12) High-angle dark field segments
Key options:
Gas chemistry: Range of proprietary deposition and etch chemistries (TEOS, W, Pt)
Hardware: OMNIPROBE 200
Beam voltage:
SEM: 200 V - 30 kV
FIB: 2 kV - 30 kV
User interface:
GUI with integrated SEM, FIB, GIS
Imaging and patterning
Simultaneous patterning and imaging mode
Operating system: Windows 2000.
PHILIPS/FEI Strata 400 Ion Milling Equipment ist ein fortschrittliches Ionenfrässystem für das präzise Ätzen und Reinigen von Oberflächen. Es ist eine Ionenfrästechnik, die verwendet wird, um eine extrem feine Oberflächengüte und einen hohen Grad an Oberflächenkontrolle für Oberflächen zu erreichen. Diese Einheit verwendet ein leistungsstarkes breites Spektrum an energetischen Ionen, um gleichzeitig die Oberfläche von nichtmetallischen und metallischen Materialien zu mahlen, um eine einheitliche Topographie zu erhalten. Die Maschine ist ein fest integriertes Werkzeug, das aus zwei Hauptkomponenten besteht: der Ionenquelle und der Sputterkammer. Die Ionsquelle ist eine Hochspannung, hohe derzeitige Kreisbogenionsquelle, mit zwei Hauptionsenergiereihen und zwei verschiedenen Auslösenmethoden (hat pulsiert und dauernd). Die Quelle kann Ionen in einem vorbestimmten Energiebereich erzeugen und eine breite Strahlabdeckung bereitstellen. Die Sputterkammer ist eine geschlossene Kammer, die einerseits eine Plasmareaktionskammer und andererseits eine elektrostatische Strahllenkung aufnimmt. Die Plasmareaktionskammer ist eine mit einem inerten Gas gefüllte Vakuumkammer, die es den ionisierten Partikeln ermöglicht, sich frei zu bewegen und gleichzeitig die Probe vor Oxidation zu schützen. Das Strahllenkaggregat hilft, die Ionen selektiv in einen bestimmten Bereich zu lenken, in dem geätzt oder gereinigt werden soll. Insgesamt wurde FEI Strata 400 entwickelt, um Anwendern einen präzisen und konsistenten Ionenfräsprozess zur Durchführung hochauflösender Ätz- und Reinigungsanwendungen zu bieten. Mit dem großen Bereich der Ionenenergien und der selektiven Strahllenkung können Anwender eine gleichmäßige Oberflächentextur für ihre Probenoberfläche mit extrem hoher Genauigkeit erreichen. Da das Verfahren anisotrop und nicht selektiv ist, sind darüber hinaus keine speziellen Mustertechniken oder Nachverarbeitungstechniken erforderlich.
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