Gebraucht PHILIPS / FEI Vion PFIB #293829450 zu verkaufen

FEI Vion PFIB (Plasma fokussierter Ionenstrahl) ist eine Art Ionenmahlsystem, das zum Ätzen und Formen von Proben für die Untersuchung der Nanotechnologie und der extremen Ultraviolettlithographie (EUV) verwendet wird. Es ist für die hochpräzise Probenherstellung im Labor und in der Industrie konzipiert. Der Ionenstrahl, den das System erzeugt, ist ein Gleichstromstrahl, der durch mehrere Parameter wie elektrische und Gaspotentiale und Strahlstrom gesteuert wird. Vion PFIB ist mit zwei separaten Quellen von Ionenstrahlen ausgestattet - einer HF-Plasmaquelle und einer Ionenpistole. Die HF-Plasmaquelle wird beim Ätzen mit höheren Strömen verwendet, während die Ionenpistole für niedrigere Ströme verwendet wird, was zu einer höherauflösenden Abbildung führt. Die HF-Plasmaquelle wird aktiviert, wenn die entsprechenden vom Benutzer eingestellten Parameter erreicht werden. Die Verwendung des Ionenstrahls erfolgt in zwei Stufen. Die erste Stufe ist das Ionenbeschießen des Probenmaterials und die zweite Stufe das anschließende Ätzen des Probenmaterials. Der Ionenstrahl wird verwendet, um die Probenoberfläche zu bombardieren und das Material zu durchdringen, was zu einer Zerstäubung des exponierten Bereichs und einem Ätzen des Materials in einer bestimmten Tiefe führt. Die Ätzrate kann durch Einstellung der Strahlenergie, des Strahlflusses und der Dauer des Beschusses gesteuert werden. FEI Vion PFIB kann in einer Vielzahl von Anwendungen verwendet werden, wie nanotechnologische Strukturen und Nanoimprint-Lithographie. Die nanotechnologischen Strukturen können mit Vion PFIB mit hoher Genauigkeit und Präzision modelliert und geätzt werden. Nanoimprint-Lithographie kann auch verwendet werden, um Merkmale auf der Nanoskala einzuführen, mit einer monomorphen Merkmalsschicht bereits auf der Oberfläche der Probe. Dies ermöglicht die Einführung von Merkmalen auf der Nanoskala an vorbestimmten Stellen der Probe. Insgesamt ist FEI Vion PFIB ein fortschrittliches Ionenfrässystem, das für die Nanotechnologie und extreme UV-Lithographie verwendet wird und extrem präzise und genaue Bilder erzeugen kann. Es ist mit zwei wesentlichen Ionenquellen ausgestattet, einer Plasmaquelle und einer Ionenpistole, so dass der Benutzer das Material in einer kontrollierten Umgebung ätzen oder modellieren kann. Mit seinen vielfältigen Anwendungen in der Nanotechnologie und der extremen Ultraviolettlithographie bietet Vion PFIB der Industrie ein zuverlässiges Werkzeug für die Schaffung von Strukturen und Merkmalen auf der Nanoskala.