Gebraucht VEECO C-1 MicroEtch IBE 350 #9300433 zu verkaufen

VEECO C-1 MicroEtch IBE 350 ist eine Ionenfräsanlage zum Ätzen und Strukturieren von Halbleiter- und Dünnschichtbauelementen. Dieses System ist ein vollautomatisches, fertigungsfähiges Ionenstrahlätzwerkzeug, das eine Vielzahl von Substratmaterialien, einschließlich Polysilizium, Silizium und Titan, ätzen kann. Ausgestattet mit einer hochmodernen spektralen Ionenquelle ist der Ionenstrahl dicht, mit präziser Kontrolle über Flugbahn, Präzision und Gleichmäßigkeit. Die innovative Ionenquelle des C-1 wurde entwickelt, um die Ionenstrahltrajektorien zu optimieren und so die beste Kontrolle über Ätztiefen und -präzision zu ermöglichen. Es verfügt über eine optimierte wiederholbare Bewegungseinheit, die thermische Drift minimiert und kontinuierliche und gleichmäßige Ätzraten liefert. Die ausgeklügelte Software bietet eine integrierte Steuerung der Maschineneinstellungen, die eine Echtzeit-Anpassung an Ätzparameter und Prozessbedingungen ermöglicht. Der C-1 ist unter Berücksichtigung der Sicherheit konzipiert. Es verfügt über eine einzigartige vakuumdichte Kammer, die ein hohes Maß an Ioneneinschluss bietet, um den Betrieb innerhalb der lokalen Sicherheitsanforderungen zu gewährleisten und die Strahlenbelastung zu minimieren. Das fortschrittliche Sicherheitswerkzeug umfasst auch zusätzliche Sicherheits- und Überwachungssysteme, einschließlich Druck- und Temperatursensoren. Die Gesundheit und Sicherheit der Bediener wird weiter durch schalldämpfende Merkmale gewährleistet, die eine einfache Bedienung ohne laute Geräusche oder gefährliche Stoffexposition des Bedieners ermöglichen. C-1 MicroEtch IBE 350 ist eine vielseitige, zuverlässige und effiziente Ionenfräse, die für den kommerziellen Einsatz entwickelt wurde. Es verfügt über verschiedene erweiterte Sicherheitsfunktionen und eine hochmoderne spektrale Ionenquelle, die die Leistung maximieren soll. Es ist in der Lage, Substrate mit Präzision und Wiederholbarkeit effektiv zu ätzen, was es zu einer idealen Lösung für das Präzisionsätzen und Strukturieren von Halbleiter- und Dünnschichtbauelementen macht.