Gebraucht VEECO / DEKTAK RF 350 #9235881 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9235881
Ion Beam Etcher (IBE)
P/N: 9903-169-01
With manual loader system
Upgraded hard drives
MIT Dry transformer, 190M
LEYBOLD 100 Dry vacuum pump
LEYBOLD Trivac D65B pump
MZ-2T Pump
FC1600T Chiller.
VEECO/DEKTAK RF 350 ist eine hochpräzise automatisierte Ionenfräsanlage, die zur Herstellung ultradünner Substrate für eine Vielzahl von Anwendungen entwickelt wurde. Das System integriert fortschrittliche Funktionen wie automatisierte Probenvorbereitung, Ionenpistole und/oder Ätzkomponenten und Steuerelektronik. Dies ermöglicht eine präzise Steuerung von Fräswinkeln, Strahlenergien und Belichtungsdauern und ermöglicht eine beispiellose Präzision bei der Herstellung ultradünner Substrate. Das Substrat wird in der Maschine montiert und eine lithographische maßgeschneiderte Maske über das Substrat gelegt. Aus der Ionenpistole wird ein Ionenstrahl erzeugt, der fein auf einen punktförmigen Punkt fokussiert ist. Dieser Strahl bombardiert dann das Substrat in einer Reihe von exakt gebildeten Winkeln, die kalibriert werden, um das Substrat in der gewünschten Ebene zu fräsen. Während die Ionen auf das Substrat treffen, ätzen sie an seiner Oberfläche weg, wodurch die Geometrie des gewünschten Teils erreicht werden kann. Ionenenergie und Strahlablenkung werden fein eingestellt, um die Geschwindigkeit und Genauigkeit des Fräsprozesses zu steuern. Die Ionenpistole VEECO RF 350 kann alternative Ätzratenmaterialien wie Metalle und sogar Silizium sowie spezielle Ionenpistolenkomponenten und Ätzkomponenten (Kathode, Schild und/oder Extraktor) herstellen. Darüber hinaus ist die Einheit in der Lage, die Temperatur der Kammer und ihre Umgebung zu regulieren, so dass eine genaue Umweltkontrolle, um die Auswirkungen der Diffusion des Ionenstrahls zu reduzieren. Die Substrate können mit hoher Genauigkeit und Präzision geschnitten werden, um das gewünschte Muster zu erzeugen. DEKTAK RF 350 kann auch in eine Kassetten-zu-Kassetten-Maschine zur gleichzeitigen Bearbeitung mehrerer Substrate integriert werden. Dies erhöht die Genauigkeit und Effizienz des Schneidprozesses insgesamt. Die Kombination aus fortschrittlichen Funktionen, präziser Steuerung und Flexibilität machen RF 350 zu einer idealen Wahl für Ionenfräsen auf einer Vielzahl von Substraten mit höchster Präzision. Seine Genauigkeit, Geschwindigkeit und Qualität machen es zu einer ausgezeichneten Wahl für diejenigen, die robuste, hochwertige ultradünne Substrate benötigen.
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