Gebraucht VEECO RF 350S #293791454 zu verkaufen

Hersteller
VEECO
Modell
RF 350S
ID: 293791454
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1999
Ion beam system, 8" BROOKS AUTOMATION 003-9010-03 BROOKS AUTOMATION 001-2980-64 BROOKS AUTOMATION 001-7500-02 Robot LEYBOLD HERAEUS TMP 260U Turbo pump LEYBOLD HERAEUS TMP 260SG Turbo pump LEYBOLD HERAEUS TMP 361C Turbo pump Process module station 2: Process: Ion beam etch PFEIFFER / BALZERS TPH 2200U Turbo pump RFPP RF20M RF Generator SPELLMAN SL 1200 Power supply SPELLMAN SL 300 Power supply SORENSON DCS60-18E Power supply SORENSON DCS600-1.75E PBN Power supply MKS CT27A12TBC810 Pressure gauge CONVECTRON Type 685 VAT 14048-PE44-AAL1/0014 Isolation valve NESLAB HX-150 Chiller Gas boxes: Gas 1: Ar, 50 SCCM Gas 2: O2, 50 SCCM 1999 vintage.
VEECO RF 350S ist eine hochmoderne Ionenfräsanlage für Präzisionsätzen und Materialabtragung in der Halbleiter-, Optik- und Forschungsindustrie. Diese fortschrittliche Ausrüstung kombiniert modernste Technologie mit robuster Konstruktion, um leistungsfähige Ionenfräsen für eine breite Palette von Anwendungen zu bieten. VEECO RF 350 S verwendet Ionenstrahltechnologie, um Material von der Oberfläche von Substraten mit hoher Präzision und Kontrolle selektiv zu entfernen. Das System erzeugt einen hochenergetischen Ionenstrahl, der die Oberfläche der Probe bombardiert, Atome und Moleküle zerstäubt, um eine präzise Ätzung und Strukturierung zu erreichen. Dieses Verfahren ermöglicht die Herstellung von ultradünnen Filmen, glatten Oberflächen und komplexen Mustern mit Submikron-Auflösung. Eines der Hauptmerkmale von RF 350S ist seine fortschrittliche HF-Plasma-Ionenquelle, die eine präzise Steuerung von Ionenstrahlparametern wie Energie, Dichte und Richtwirkung ermöglicht. Dies ermöglicht eine Anpassung der Ionenstrahleigenschaften an spezifische Materialeigenschaften und Ätzanforderungen. Darüber hinaus verfügt das Gerät über eine Hochvakuumkammer mit präziser Temperaturregelung, um optimale Bedingungen für Ionenfräsprozesse zu schaffen. RF 350 S ist mit einer vielseitigen Probenstufe ausgestattet, die verschiedene Substratgrößen und -formen aufnehmen kann und Flexibilität bei der Probenvorbereitung und -verarbeitung ermöglicht. Die Maschine unterstützt sowohl Chargen- als auch Einzelsubstratverarbeitungsmodi und ermöglicht Anwendungen mit hohem Durchsatz in der Fertigung und Forschung. Zusätzlich kann sich die Probenstufe drehen und neigen, um ein gleichmäßiges Ätzen und Abdecken über die gesamte Substratoberfläche zu erreichen. Für eine präzise Prozesssteuerung und -überwachung ist VEECO RF 350S mit fortschrittlichen Software- und Automatisierungsfunktionen ausgestattet. Benutzer können Ionenfräsprozesse programmieren und sequenzieren, Parameter für Ionenstrahlenergie und -fluss festlegen und Echtzeit-Prozessdaten überwachen, um konsistente und reproduzierbare Ergebnisse zu gewährleisten. Das Tool enthält auch integrierte Sicherheitsfunktionen und Diagnosen, um Fehler zu vermeiden und die Asset-Performance zu optimieren. Zusätzlich zu den primären Ionenfräsen kann VEECO RF 350 S mit optionalem Zubehör für verbesserte Funktionalität ausgestattet werden. Dazu gehören In-situ-Messtechnik-Tools für die Echtzeit-Prozessüberwachung, Gaseinspritzsysteme für reaktives Ionenätzen und Lastverriegelungskammern für schnellen Probenaustausch. Dieses Zubehör erweitert die Möglichkeiten des Modells weiter und ermöglicht ein breiteres Spektrum an Verarbeitungstechniken. Insgesamt bietet HF 350S Ionenfräsanlagen modernste Technologie, Präzisionssteuerung und Vielseitigkeit für eine Vielzahl von Anwendungen in der Halbleiter-, Optik- und Forschungsindustrie. Mit seinen fortschrittlichen Funktionen, anpassbaren Ionenstrahlparametern und Automatisierungsfunktionen ist RF 350 S ein leistungsstarkes Werkzeug für präzises Ätzen, Dünnschichtabscheidung und Oberflächenmodifizierung mit hoher Genauigkeit und Wiederholbarkeit.
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