Gebraucht CYMER 5300 #34281 zu verkaufen

CYMER 5300 ist eine robuste, zuverlässige 5-Achsen-Laserausrüstung, die speziell für Anwendungen mit tiefer UV-Lithographie entwickelt wurde. Es verfügt über eine hohe Wiederholrate Deep Ultra-Violet (DUV) Laserlichtquelle, mit Emission bei 193 nm, ein 6-Kanal-optisches Zentriersystem, Präzisionstechnologie und Kompatibilität mit einer Vielzahl von Maskenmaterialien wie Quarz, quarzfreie Substrate und Pellikel. 5300 bietet laserbasierte Musterfähigkeit, um eine hochauflösende Bildgebung und ausgezeichnete Bildwiederholbarkeit zu erreichen. Für die hochpräzise Drucktechnik ist das Gerät mit einer Vorausrichtstufe und fortschrittlichen, geschlossenen Strahlpositionierungssteuerungen ausgestattet. Es verfügt auch über eine hochdynamische mehrachsige Strahlrichtmaschine und Hochgeschwindigkeits-Scanfunktionen. Das Tool ist mit einer automatisierten Ausrichtungs-, Belichtungs- und Kantenerosionskontrolle ausgestattet, um Genauigkeit, Wiederholbarkeit und Kontrolle des Musterprozesses sicherzustellen. Darüber hinaus verfügt CYMER 5300 über ein integriertes Messtechnik-Modell, um Prozesskontrolle und Bildqualität sicherzustellen. Darüber hinaus bietet das Gerät eine echte dynamische Strahlablenkung für konsistente Druckleistung und höchste Mustertreue auch auf Faserebene. Das System verwendet eine Laserlichtquelle mit einer Nennleistung von über 20 Watt, bestehend aus einem 5 kHz, pulsweitenmodulierten, gelöschten Q-geschalteten Laser und einer Strahlliefereinheit mit miteinander verbindender optischer Optik. Diese Quelle beleuchtet und steuert den Musterprozess und bietet eine breite Palette von Belichtungswinkeln, hohem Durchsatz, großen und kleinen Öffnungen und integrierten Kalibrierfunktionen. 5300 umfasst auch eine intuitive, benutzerfreundliche Benutzeroberfläche mit flexiblen Bedieneinstellungen und effizientem Interlock-Management. Es kombiniert präzise mechanische Leistung mit anspruchsvollen digitalen Steuerungssystemen, um zuverlässige und wiederholbare Elektronik-Lithographieergebnisse zu liefern. Es ist eine ideale Wahl für die hochvolumige, hochpräzise IC-Produktion.