Gebraucht CYMER 5600 / 5610 #9030427 zu verkaufen

CYMER 5600/5610 Laser sind Ultrahochleistungs-Einstrahllaser, die von CYMER, Inc. für extreme Mikroelektronik und Wafer-Skala-Belichtungszwecke entwickelt wurden. Diese Laser sind weit verbreitet bei der Herstellung von Halbleiterchips, integrierten Schaltungen (ICs), passiven Bauelementen und anderen mikroelektronischen Bauelementen. 5600/5610 Laser bieten die höchste Leistung, den kürzesten Puls und die höchsten Wiederholungsraten, die für die Photolithographie verfügbar sind. CYMER 5600/5610 Laser basieren auf Multi-Stripe-Technologie, eine einzigartige Form des diodengepumpten, MOPA (Master Oscillator Power Amplifier) Festkörperlasers. Diese Technologie kombiniert mehrere schmalbandige Laserstrahlen von einem einzigen Laserkopf zu einem einzigen Hochleistungs-Laserpuls. Der Multi-Stripe-Design-Ansatz minimiert die nichtlinearen Effekte, die traditionell mit anderen diodengepumpten Laserdesigns verbunden sind. Die resultierende Kurzpulslaseranlage hat eine Strahlfleckgröße, die auf spezifische Systemanforderungen zugeschnitten werden kann. 5600/5610 Laser erzeugen Hochleistungs-Spitzenleistungen nach oben von 10kW mit einer Wiederholrate von bis zu 100kHz. Diese Laser haben eine Kurzpulsdauer von typischerweise 10 Nanosekunden (ns) und bieten Spitzenleistungen mehr als eine Größenordnung höher als andere Hochleistungs-Laserplattformen. Darüber hinaus verfügen CYMER 5600/5610 Laser über fortschrittliche Leistungsstabilisierung und Energiemanagement, um höchste Strahlstabilität und langfristige Zuverlässigkeit von der Lasereinheit zu gewährleisten. Diese Laser wurden entwickelt, um Display-Artefakte praktisch zu eliminieren und eine ausgezeichnete Sicht während der Belichtung von Photomasken und Dünnschichtgeräten zu bieten. 5600/5610 Laser verwenden digitale Scan-Steuerung, die echte Sub-Pixel-Auflösung und überlegene Musterergebnisse ermöglicht. Die Laser sind auch für die Abstrahldivergenz ausgelegt, um einen präzisen Fokus und eine gute Überlagerungsgenauigkeit zu gewährleisten. In der Wafer-Skala-Belichtungsumgebung sind CYMER 5600/5610 Laser speziell für hochauflösende, Durch-die-Linsen-Bildgebung optimiert. Die Laser bieten schnelle Scangeschwindigkeiten und verbesserte Ausblicke in die Prozessfähigkeit. 5600/5610-Systeme wurden umfassend vor Ort getestet und sind so konzipiert, dass sie die strengsten Prozessanforderungen für die kommerzielle Produktion erfüllen. Bei der mikroelektronischen Produktion bietet die Laserplattform CYMER 5600/5610 die höchste Spitzenleistung und kürzeste Pulsbreite der Branche. Dies macht sie zu einer idealen Wahl für extreme Mikroelektronik-Anwendungen wie Lithographie, Ätzen, High-Density-Interconnect-Fertigung, Micro-Scale-Verpackung und MEMS-Fertigung. Mit ihrer Hochleistungs- und Kurzpulsfähigkeit bieten 5600/5610 Laser die effizienteste Maschine für die Produktion von mikroelektronischen Geräten, die den höchsten Durchsatz und die beste Geräteausbeute ermöglicht.