Gebraucht CYMER ELS 5305 #9295002 zu verkaufen

CYMER ELS 5305 ist eine Excimer-Laseranlage der Firma CYMER, Inc., für die Herstellung von Halbleitern und Komponenten. Es wird für zwei Schlüsselprozesse verwendet: Lithographie und Nassätzung. Das Lasersystem ist für hohe Leistung und Kosteneffizienz optimiert und erfüllt gleichzeitig die anspruchsvollen Prozessanforderungen neuer Gerätearchitekturen. ELS 5305 nutzt eine thuliumdotierte Keramik-Lasertechnologie, um kurzpulsiges ultraviolettes (UV) Licht unterschiedlicher Wellenlängen zu emittieren. Mit Pulswiederholraten von bis zu 10 Hz und Pulsenergien von bis zu 170 mJ kann die Lasereinheit effizient die für die Erzeugung hochpräziser Photomasken benötigte Belichtungsenergie erzeugen. Darüber hinaus machen die eigenen Laserpulstechniken gemäß CYMER den Laser von Umgebungstemperatur und Luftfeuchtigkeit unbeeinflusst und sorgen so für eine Wiederholbarkeit der Belichtungsergebnisse. Für Nassätzprozesse ist die Lasermaschine in der Lage, Ätztiefen bis zu 0,35 μ m und Ätzbreiten über 1,5 μ m zu erzeugen. Bei der kurzen Pulsdauer des Lasers von 0,37 Mikrosekunden kann der Naßätzprozess insbesondere bei flachen Ätztiefen für eine höhere Präzision sorgen. CYMER ELS 5305 ist auch mit einem proprietären fortgeschrittenen Videomikroskop und Fokussteuerungssystemen (V-MIC) für automatisierte Lithographieverfahren ausgestattet. Durch den Einsatz ausgeklügelter Positionserfassungs-, Sondierungs- und Mappingtechnologien gewährleistet das V-MIC, dass die Fokusgenauigkeit während des gesamten Musterprozesses erhalten bleibt. Um eine langfristige Werkzeugzuverlässigkeit zu gewährleisten, verfügt ELS 5305 über eine geschlossene Kühlung, die dazu beiträgt, jederzeit eine konstante Betriebstemperatur von 80 Grad aufrechtzuerhalten. Zusätzlich wurde ein fortschrittliches Luftreinigungsmodell aufgenommen, das luftgetragene Partikel auf bis zu 0,2 Mikrometer reduziert. Insgesamt ist CYMER ELS 5305 eine fortschrittliche Laserausrüstung, die für präzise Halbleiter- und Bauteilherstellung entwickelt wurde. Es verfügt über intuitive Bedienelemente, fortschrittliche Belichtungs-/Ätztechnologie, automatisierte Fokussteuerung und zuverlässige Temperatur-/Partikelsteuerung, so dass es die perfekte Passform für High-End-Lithographie- und Nassätzanwendungen ist.