Gebraucht CYMER ELS 7000 #293656110 zu verkaufen

CYMER ELS 7000 Laser ist eine Excimer Laserquelle entwickelt und hergestellt von CYMER. Dieses Lasermodell wird hauptsächlich für die Herstellung von Nano-Geräten verwendet, einschließlich fortschrittlicher Mikro- und Nanoelektronik. Dieser Laser wurde entwickelt, um dreidimensionale Photoresist-Strukturen zu schaffen, die für jede große Chip-Produktion unerlässlich sind. ELS 7000 verfügt über ein robustes und zuverlässiges LD ArF (193 nm) Excimer-Laserdesign, um den wachsenden Anforderungen der Halbleiter- und Nanotechnologie-Industrie gerecht zu werden. Dieses Gerät ist ein konvertierter Standard-ArF-Laser mit einer einzigen Wellenlänge von 193nm. Es enthält eine 6-Zoll-Laserkammer und eine Reihe von Leistungsoptionen von 0,8 kW bis 2,5 kW. Das Lasersystem wird vor allem zur Photoresist-Strukturierung sowie zur Entwicklung von CVD-Anwendungen (Chemical Vapor Deposition) eingesetzt. CYMER ELS 7000 Einheit zeigt auch eine einheitliche Lasermachtproduktivitätsüberwachungsmaschine, die dazu fähig ist, Daten im Prozess zu sammeln. Dieses Tool hilft bei der Rückverfolgbarkeit und Produktqualitätskontrolle und verbessert so den Ertrag und die Zuverlässigkeit der Endprodukte. Darüber hinaus verfügt die Anlage über Pulskontinuität und Pulskontrolltechnologien, die eine schnelle, stabile Quelle von Laserpulsen ermöglichen, die die Steuerung von Schichten für kritische Prozesse weiter verbessern. Insgesamt ist der ELS 7000 Laser gut für die industrielle Produktion von Halbleiterprozessoren geeignet und bietet zuverlässigen Hochleistungsbetrieb zu einem sehr erschwinglichen Preis. Die leistungsstarke Einzelwellenlänge und die kontinuierliche Verbesserung des Laserquellendesigns machen es ideal für Nanotechnologie-Anwendungen, und das integrierte Überwachungsmodell bietet eine effiziente und kostengünstige Methode zur Gewährleistung der Produktqualität und Rückverfolgbarkeit.