Gebraucht ABM 6/350/NUV/DCCD/BSV/M #293653250 zu verkaufen

ABM 6/350/NUV/DCCD/BSV/M ist ein hochmoderner Hochleistungsmasken-Aligner für die präzise mikroelektronische Fertigung. Es bietet branchenführende Genauigkeit und Stabilität bei der Ausrichtung von Photomasken, was zu niedrigeren Ausfallraten bei Halbleiterherstellungsprozessen führt. ABM 6/350/NUV/DCCD/BSV/M aligner eignet sich hervorragend für die Herstellung von Halbleiterscheiben, da es einen hohen Durchsatz, niedrige Betriebskosten und eine große Arbeitsumhüllung mit bis zu 25 „x 25“ Substraten bietet. Im Kern ist ABM 6/350/NUV/DCCD/BSV/M ein direkter Kontaktmasken-Aligner mit einer Projektionslinse und fünf Mikropositionierern. Das Gerät ist so konzipiert, dass die strukturierte Photomaske und das Substrat vor dem Belichtungsprozess genau ausgerichtet werden. Dies wird durch eine parallele Ausrichtung mit einer integrierten Kollimationslinse erreicht, die eine perfekte Wiederholung des Feinmusters von der Fotomaske auf das Substrat ermöglicht. Die hochauflösenden Mikropositionierer werden für die x-, y- und z-Achsen-Fokussierung verwendet, was eine Submikron-Genauigkeit in allen drei Achsen ermöglicht. ABM 6/350/NUV/DCCD/BSV/M verfügt auch über einen erweiterten DCCD (Direct Contact Cathode Discharge) Scanner für erhöhten Durchsatz und Genauigkeit. Dies kombiniert eine partikelfreie Projektionsumgebung mit einem hochgenauen optischen System, das eine optimale Registrierung von Maske zu Substrat ermöglicht. Es kommt auch mit einer leistungsstarken Atemeinheit, die den Astigmatismus und Koma-Aberration der Projektionslinse überwacht, um wiederholbare Ergebnisse zu gewährleisten. ABM 6/350/NUV/DCCD/BSV/M bietet dank seiner proprietären BSV-Maskenprojektionsmaschine (Bright Source Variable) eine überlegene Beleuchtungsgleichmäßigkeit. Dieses Tool verwendet mehrere LEDs, die individuell angepasst werden können, so dass der Benutzer die Beleuchtungsstärke und Gleichmäßigkeit ändern kann, um ihre Anwendungsanforderungen perfekt zu erfüllen. Abschließend ist ABM 6/350/NUV/DCCD/BSV/M ein branchenführender Masken-Aligner, der überlegene Genauigkeit und Wiederholbarkeit für alle Arten von Halbleiter- und Photonenanwendungen bietet, einschließlich Laser-Scribing und Einzelpulsbelichtung. Es bietet eine robuste, zuverlässige Plattform, um die höchsten Erträge und die niedrigsten Betriebskosten zu erzielen.