Gebraucht ABM ABM/6/350/NUV/DCCD/M #9293272 zu verkaufen

ABM ABM/6/350/NUV/DCCD/M ist ein hochleistungsfähiger, hochmoderner Maskenausrichter für fortschrittliche Halbleiterherstellungsprozesse. Es ermöglicht eine präzise Kontaktausrichtung zwischen lichtempfindlichem Material und einem Substrat, wie einem Wafer, mit überlegener Genauigkeit und Wiederholbarkeit. Das Masken-Aligner verfügt über eine Strahlquelle von 350 nm Wellenlänge, Nanometer (nm) Auflösung und eine Dynamic-Charge-Control-Drive (DCCD) Ausrüstung für verbesserte Stabilität. ABM ABM/6/350/NUV/DCCD/M ist in der Lage, eine sehr präzise Ausrichtung und Musterausrichtung zu ermöglichen, um die Produktion von Photomasken mit hohem Volumen zu ermöglichen. Dies wird durch programmierte Ausrichtungssoftware und gesteuerte Manipulation des Wafers durch motorisierte Stufen erreicht. Diese Motoren werden von einem hochpräzisen Bewegungssteuergerät angetrieben, mit der Fähigkeit, den Wafer genau zu positionieren. Das Gerät verfügt auch über ein 6-Zoll (6 ") Mehrschicht-optisches System, das eine überlegene Bildgebungs- und Ausrichtungsgenauigkeit ermöglicht. Dies wird noch durch den nahen Ultraviolettstrahl von 350 nm verstärkt, der nachweislich die prozessinduzierte Beanspruchung der Geräteoberfläche signifikant reduziert. Dies wiederum verringert das Auftreten von Substratdefekten und verbessert die Ausbeuten. Darüber hinaus enthält der Aligner einen DCCD-Antrieb (Dynamic Charge Control Drive), der die Präzision, Wiederholgenauigkeit und Genauigkeit weiter erhöht. Die DCCD-Maschine reduziert die Positionsabstimmzeit, da sie ladungsbasierte Anregungen durch externe Störungen während des Ausrichtvorgangs entgegenwirkt. ABM ABM/6/350/NUV/DCCD/M kann für komplexe und hochpräzise Fertigungsanwendungen eingesetzt werden. Es eignet sich für anspruchsvolle Halbleiter-Arbeitsumgebungen, wie z.B. diejenigen, die an Submikron-Merkmalsgrößen und fortgeschrittenen MEMS und NEMS-Prozessen beteiligt sind. Insgesamt ist ABM ABM/6/350/NUV/DCCD/M aufgrund seiner hochgenauen und wiederholbaren Ausrichtungs- und Bildgebungsfunktionen eine ausgezeichnete Wahl für die hochgradige Halbleiterphotomasenproduktion. Sein robustes Design und die verbesserte Präzision verbessern die Ausbeute und die Kostenreduzierung bei gleichzeitig höchster Genauigkeit.