Gebraucht ABM ABM/6/500/NUV/DCCD/M #293596008 zu verkaufen

Ein ABM ABM/6/500/NUV/DCCD/M Masken-Aligner ist eine Präzisionsausrüstung, die im Ausrichtungsprozess der Halbleiterintegrierten Schaltung (IC) -Herstellung verwendet wird. Es besteht typischerweise aus zwei Hauptkomponenten: einem Waferstadium und einem Retikelstadium. Die Waferstufe unterstützt und richtet den Wafer in seiner Position vor den Ausrichtzyklen aus. Die Retikelstufe ist für die Ausrichtung der Photomaske (bzw. des Retikels) bezüglich der Ausrichtposition des Wafers verantwortlich. Beide Stufen verfügen über Vakuumsysteme, die den Wafer absaugen oder absaugen und eine feste, stabile Grundlage für den Ausrichtungsprozess bieten. ABM ABM/6/500/NUV/DCCD/M Maskenausrichter ist mit einem Kollimationssystem ausgestattet, das aus einem Strahlteiler und zwei Linsen besteht und eine kollimierte Lichtquelle bereitstellt, die zur Messung der Winkelfehlstellung zwischen dem Wafer und dem Retikel verwendet wird. Die Ausrichtgenauigkeit des ABM ABM/6/500/NUV/DCCD/M Maskenausrichters wird mit Hilfe einer Reihe von Servomotoren erreicht, die entlang der X-Y-Z-Achsen laufen. Diese Servomotoren bieten und halten horizontale und vertikale Feinausrichtungsgenauigkeiten von bis zu +/-0,5 Mikron. ABM ABM/6/500/NUV/DCCD/M mask aligner wird von einem Industrial PC mit fortschrittlicher Bedieneinheit und individueller Software zur Steuerung des gesamten Ausrichtungsprozesses, Positionierung und Scannen angetrieben. Dadurch kann die Maschine Wafer und Retikel positionieren, die Fehlausrichtung messen und bei Bedarf die Ausrichtung anpassen oder korrigieren. Darüber hinaus bietet die PC-Plattform auch eine Netzwerkfunktion für Einstellungen, Monitore, Fehlerbehebung und Diagnose. In ABM ABM/6/500/NUV/DCCD/M Maskenausrichter wird eine optische Maschine aus zwei Abbildungssystemen und kontinuierlichen UV-Lichtquellen mit Lichtbogensensoren eingesetzt. Mit dem bildgebenden Werkzeug wird das Bild von Retikel und Wafer erfasst, während die Bogensensoren ihren Kontaktwinkel messen. Dadurch wird eine maximale Bewegungsgenauigkeit der X-Y-Z-Achsen bei gleichbleibend niedrigen Fehlerraten gewährleistet. Darüber hinaus enthält ABM ABM/6/500/NUV/DCCD/M auch ein Dual Camera Control Device (DCCD), das verwendet wird, um die Bilder von Retikel und Wafer zu beobachten und zu vergleichen, was ein zuverlässigeres Ausrichtungsergebnis liefert. ABM ABM/6/500/NUV/DCCD/M Maske Aligner ist entworfen, um überlegene Genauigkeit in seinen Ausrichtungsergebnissen zu liefern. Es bietet eine Wiederholgenauigkeit von bis zu 0,25 Mikron und seine allgemeine Ausrichtungsgenauigkeit ist auf +/- 0,5 Mikron eingestellt. Damit ist es eine gute Wahl für Anwendungen in hochmodernen Halbleiterfertigungslinien. Darüber hinaus machen die fortschrittliche Steuerung, das zuverlässige optische Modell und die einfache Vernetzung den Betrieb einfach und effizient.