Gebraucht ABM Custom #9111321 zu verkaufen
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ID: 9111321
Wafergröße: 8"
Mask aligner, 8"
Zeiss high resolution mask alignment microscope
500 Watt UV power supply
Top and backside alignment
Table-top configuration
Adjustable vacuum contact
Precision alignment module for piece parts up to 8" Square, .005" to .3" Thick
Top (2" to 10") and Bottom (2" to 8") vacuum mask holders
Fixed level or Wedge compensation vacuum chucks
Uniform / Collimated exposure beams, Near UV, Mid UV, Deep UV
2-Channel 200 To 2,000 Watt intensity controlling power supplies
Splitfield CCD/TV alignment systems / microscopes
Single Field Zoom & High Magnification Microscopes
Standard support and vibration isolation tables.
ABM Custom ist ein extrem präziser Maskenausrichter, der für die Herstellung von Halbleiterbauelementen entwickelt wurde. Es ist mit einer Reihe fortschrittlicher Optik- und Bildverarbeitungskomponenten ausgestattet, die die genaue Positionierung von Masken für die Herstellung der anspruchsvollsten Schichtdesigns ermöglichen. Dieses Tool wurde speziell für benutzerdefinierte Masken-Layout-Anforderungen entwickelt, wie Ultra-Thin Hard Mask und Polyimide-Anwendungen, sowie erweiterte Flip-Chip- und Fan-Out-Anwendungen. ABM Custom verfügt über eine 3-Achsen-Positionierausrüstung mit extrem hoher Genauigkeit und Wiederholgenauigkeit. Durch dieses Positioniersystem wird sichergestellt, dass sich Masken genau an der Oberfläche des Wafers befinden. Es ist auch mit einer automatisierten Vision-Ausrichteinheit ausgestattet, die Verzerrungen oder Fehlstellungen in der Maskenposition kompensiert. Die Maschine ist in der Lage, schnelle, genaue und wiederholbare Maskenausrichtung auf die Waferoberfläche auch bei der Arbeit mit anspruchsvollen Geometrien. Custom verwendet auch spezialisierte Bildverarbeitungsalgorithmen, um eine hohe Auflösung und einen Durchsatz für die Bildausrichtung zu erreichen. Es verwendet ausgeklügelte Bildanalyse-Algorithmen, um alle peripheren Verzerrungen zu korrigieren, was eine konsistente Ausrichtung der Masken auf dem Wafer ermöglicht. Darüber hinaus ermöglicht ABM Custom eine komplexe Optimierung der Belichtungsparameter, einschließlich der Einstellung der Steigung, der Offsets und der automatischen Belichtungspegel. Das Tool enthält auch einen Auto-Korrektur-Algorithmus zur fein abgestimmten Optimierung der Belichtungseinstellungen. Dadurch wird sichergestellt, dass Masken unabhängig von der Komplexität des Schichtdesigns genau und konsistent ausgerichtet werden. Custom ist ein präziser und zuverlässiger Maskenausrichter für ABM Custom Maskenlayout-Anforderungen. Seine hohe Genauigkeit und Wiederholbarkeit bieten eine hervorragende Lösung für eine breite Palette von Schichtfabrikationsanwendungen, von ultradünnen Hartmasken- und Polyimid-Anwendungen bis hin zu fortschrittlichen Flip-Chip- und Fan-Out-Anwendungen. Seine Bildverarbeitungsalgorithmen und integrierten Optimierungsparameter ermöglichen eine zuverlässige Ausrichtung von Masken, was zu einem effizienten und kostengünstigen Maskenausrichter führt.
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