Gebraucht ASYST 0FH3000-001 #9384810 zu verkaufen

ASYST 0FH3000-001 ist ein hochmoderner Maskenausrichter, der für den hochgenauen Photomasken-Mustertransfer auf Halbleiter und andere Substrate entwickelt wurde. Es ist kompatibel mit Standard-Fotomasken-Größen und verfügt über eine mehrstufige Hochgenauigkeit Ausrichtung Ausrüstung. Das System besteht aus einem symmetrischen und unabhängigen x-y-Tisch und einer UV-Kontaktbildquelle. 0FH3000-001 sorgt mit einem vierstufigen Ausrichtverfahren für eine extrem hohe Genauigkeit der Photomaskenplatzierung. Es verwendet zwei Sensoren, um einen Marker auf der Fotomaske und eine Referenzphotomaske zu lokalisieren, um die Maske genau auf das Substrat auszurichten. Die Einheit verwendet dann zwei Projektionsinterferometer, um jede der Photomasken-Registermarken zu identifizieren. Diese Informationen werden verwendet, um jede der Düsen auf der Photomaske relativ zu den Markierungen genau zu platzieren. Dies gewährleistet eine hohe Platzierungsgenauigkeit über die gesamte Oberfläche der Fotomaske. ASYST 0FH3000-001 verfügt auch über ein Mehrzonen-Sichtfeld. Diese Funktion ermöglicht es der Maschine, eine Mehrfach- oder Mehrfachzonenbeleuchtung anzustreben, um eine gleichmäßige Korrektur in Mehrfachzonen- und/oder Vollfotomasken zu gewährleisten. Das Tool verwendet Zonenbildsysteme, die mit der interferometrischen Ausrichtungsempfindlichkeit kombiniert werden, um eine schnelle und genaue Platzierung von Photomaskenmustern über den gesamten Chipbereich zu erreichen. 0FH3000-001 ist für eine hochgenaue Photomasken-Musterübertragung auf den Wafer ausgelegt. Um hohe Genauigkeit und Zuverlässigkeit zu gewährleisten, verfügt ASYST 0FH3000-001 über fortschrittliche optomechanische Konstruktionselemente wie hochpräzise Aktuatoren, kraftlose Antriebssysteme und fortschrittliche chemfeste Materialien, um einen servicefreien Betrieb zu ermöglichen. Die Anlage ist zudem mit einer hochauflösenden Bildgebungsquelle ausgestattet, die eine überlegene Leistung für Submikron-Photomaskenmuster gewährleistet. Zusammenfassend ist 0FH3000-001 ein fortschrittlicher Masken-Aligner, der die hochgenaue Übertragung von Photomasken auf elektronisch wachsende Substrate ermöglicht. Es verfügt über ein mehrstufiges hochgenaues Ausrichtungsmodell mit Zonenabbildungssystemen, um eine gleichmäßige Korrektur zu gewährleisten. Die Ausrüstung ist auch mit kraftlosen Antriebssystemen und fortschrittlichen chem-resistenten Materialien für einen zuverlässigen Betrieb ausgestattet.