Gebraucht BSL / BETA SQUARED LITHOGRAPHY OS2000 #9174090 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9174090
Wafergröße: 4"-6"
Weinlese: 2011
Mask aligner, 4"-6"
Specifications:
Resolution:
1.25 um lines and spaces, UV-4 (340-440nm)
1.0 um lines and spaces, UV-3 (300-350nm)
Machine to machine overlay:
+/- 0.25 um, 125 / 100 mm systems, 98% of data
+/-0.30 um, 150 mm systems, 98% of data
Machine to itself overlay: +/- 0.25 um, 98% of data
Throughput:
120 Wafers per hour, 125 / 100 mm systems
100 Wafers per hour, 150 mm systems
Depth of focus: +/- 6 um for 1.5 um lines and spaces
Focus stability: +/- 2.0 um over 6 days
Focus range: +/- 200 um, +/-450 um
Extended bellows chuck:
Partial Coherence: Variable, 0.37 to 0.86
Numerical Aperture: .167
Uniformity of Illumination: +/- 3.0%
Particle generation: <7 Particles per wafer pass (1.0 um or larger)
Pre alignment and first-level placement accuracy: +/-15 um
Footprint: 18.65 Square feet (1.732 square meter)
Electrical: 120 Vac at 10 Amps, or 240 Vac at 5 amps
Includes:
Several spare parts
User manuals
2011 vintage.
BSL/BETA SQUARED LITHOGRAPHY OS2000 ist ein fortschrittlicher, prozessgesteuerter Maskenausrichter für die ultrapräzise Mikrofabrikation. Es ist eine Bilderzeugungsanlage, die fortschrittliche Optik und präzise Bewegungssteuerungstechnologie kombiniert, um Muster auf Photolackschichten zu erstellen. Dieses System wird verwendet, um Schaltungsmerkmale, wie z.B. Leitungsbreiten, auf elektronischen Paketen zu definieren und Leiterplatten für verschiedene Komponenten zu erstellen. Die BSL OS2000 Einheit besteht aus vier großen Subsystemen: der optischen, der Bewegungssteuerung, der Präzisionsausrichtung und der ergonomischen Steuerungsmaschine. Das optische Werkzeug besteht aus zwei Laserstrahlen, mit denen ein gemustertes Bild auf der Photolackschicht erzeugt wird, um das gewünschte Muster zu erzeugen. Die Bewegungssteuerung verwendet einen Mehrspindelmotor, um die Laserstrahlen an präzisen Stellen zu positionieren. Das genaue Ausrichtungsmodell verwendet einen geschlossenen Servo, um die genaue Position der Laserstrahlen beizubehalten. Dadurch wird sichergestellt, dass das gemusterte Bild genau auf der Photolackschicht erzeugt wird. Die ergonomische Steuerung ist so konzipiert, dass der Bedienkomfort durch eine einstellbare Benutzeroberfläche und ergonomische Bedienelemente gewährleistet ist. BETA SQUARED LITHOGRAPHY OS2000 bietet eine hervorragende Auflösung und Genauigkeit. Es kann eine Musterauflösung von bis zu 50nm erreichen und feine Öffnungen und kritische Merkmale genau reproduzieren. Das System bietet auch hohe Linearität für hohe Treue zu Originalkonstruktionen. Darüber hinaus kann die Einheit mit einem breiten Spektrum von Energien arbeiten, von standardmäßigem sichtbarem Licht bis zu ultravioletten Wellenlängen und hat einen einstellbaren Wellenlängenbereich. Die Maschine bietet Wiederholbarkeit, um die Qualitätskontrolle und den Durchsatz der Produktion sicherzustellen. OS2000 ist eine ideale Wahl für die Herstellung von Halbleitern und Leiterplatten. Es kombiniert die neuesten Mikrofabrikationstechniken mit höchster Genauigkeit und ist einfach zu installieren und zu bedienen. Seine erweiterten Automatisierungsfunktionen können die Kosten und die Zeit im Zusammenhang mit Maskenausrichtungsoperationen reduzieren. Darüber hinaus ist es sehr zuverlässig und führt zu konsistenten Ergebnissen.
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