Gebraucht BSL / BETA SQUARED LITHOGRAPHY PE 700 #9157841 zu verkaufen

BSL/BETA SQUARED LITHOGRAPHY PE 700 ist ein hochmoderner Maskenausrichter für Lithographieanwendungen. Es bietet eine Hochleistungs-Lithographielösung zur Strukturierung von hochauflösenden Merkmalen auf Halbleiterbauelementen. Die Ausrüstung ist ideal für die Herstellung von Halbleiterbauelementen, Feinmusterung und fortschrittliche Verpackung. BSL PE 700 Maske Aligner ist ein hochpräziser, Maske Aligner, der eine kompakte Bauweise hat. Es verwendet extreme ultraviolette Lithographietechnologie und bietet ein fortschrittliches Belichtungssystem für feine Linienmuster. Dieses Gerät ist in der Lage, kritische Merkmale bis zu einer Größe von 30 nm bei einer hohen Auflösungsleistung von 18 µm zu erzeugen. Es hat auch einen hohen Durchsatz von ca. 500 Wafern pro Stunde. Die Maschine ist mit einer hochpräzisen, motorisierten 5-Achsen-Stufe ausgestattet, die eine hervorragende Ausrichtgenauigkeit und Wiederholbarkeit bietet. Darüber hinaus ist die Stufe in der Lage, eine Massenausrichtung mehrerer Wafergrößen mit einem breiten Spektrum von Substraten durchzuführen. Der Wafer kann ohne Verzerrung oder Verformung des Musters sicher gehalten werden. Das Tool verfügt zudem über einen automatisierten softwaregesteuerten Lithographieprozess und bietet ein hochauflösendes Bild auf kritischen Ebenen. Es ermöglicht Anwendern, eine Vielzahl von Photomasken von geringer bis hoher Komplexität zu entwickeln. Die Photomaske wird dann mit hoher Genauigkeit auf das Gerät montiert und belichtet, um das gewünschte Muster zu erzeugen. Die Ausrichtungsgenauigkeit in Verbindung mit der hohen Auflösung macht das Asset zu einer idealen Wahl für hochpräzise und zuverlässige Lithographieanwendungen. BETA SQUARED LITHOGRAPHY PE 700 Maske Aligner enthält auch ein Backmodell nach der Belichtung. Dadurch wird sichergestellt, dass das Muster ordnungsgemäß mit Konsistenz gebacken wird. Es verfügt auch über eine automatisierte Ausrüstung, um das Endergebnis zu messen und Feedback zu geben, um die Ausrichtung und Genauigkeit der nächsten Exposition zu verbessern. Dies macht es einfach, die Ergebnisse zu optimieren und konstante Ausbeute zu erhalten. Zusammenfassend ist PE 700 ein hochauflösender Masken-Aligner, der für den Einsatz in High-End-Lithographieanwendungen und zur Herstellung von Halbleiterbauelementen konzipiert ist. Es bietet eine effiziente und präzise Lithographielösung zur Strukturierung von hochauflösenden Merkmalen auf Halbleiterbauelementen. Dieses System ist in der Lage, Merkmale bis zu 30 nm mit einem beeindruckenden Durchsatz von 500 Wafern pro Stunde zu mustern. Die automatisierte Software-gesteuerte Lithographieeinheit und die Backmaschine nach der Belichtung machen sie zu einer idealen Wahl für präzise und zuverlässige Lithographieergebnisse.