Gebraucht CANON 501 F #68942 zu verkaufen

CANON 501 F ist ein automatisierter Maskenausrichter, der bei der Herstellung von integrierten Schaltkreisen verwendet wird, wo es verwendet wird, um die Muster einer Photomaske genau mit denen eines mit Photolack beschichteten Wafers oder eines anderen Substrats auszurichten. Der Aligner ist in der Lage, die Maske korrekt auf eine Genauigkeit von wenigen Nanometern zu positionieren. 501 F ist in der Lage, die Maske und den Wafer sowohl auf X- als auch auf Y-Achse zu positionieren. Ein Vakuumrahmen hält den Wafer fest, da er von drei Mikromotoren übersetzt wird, die in X- und Y-Richtung bewegt werden können, mit Hilfe von Encodern, die die Bewegung verfolgen. Die drei Motoren können für unterschiedliche Ausrichtvorgänge und für unterschiedliche Bewegungsbereiche extern gesteuert werden. Um die Maske und den Wafer genau auszurichten, wird ein Laser verwendet, um die Abstände von den Markern auf der Oberfläche des Substrats zu berechnen. Der Laser wird auf das Substrat gelegt und auf die Maske projiziert, um den Abstand zu messen und den Ausrichtwert zu berechnen. Ein weiteres Merkmal von CANON 501 F ist seine Fähigkeit, eine präzise Ausrichtungseinstellung mit einem Feedback-Prozess durchzuführen. 501 F verfügt über einen eingebauten pneumatischen Verschluss, um die Maske und den Wafer vor Staubpartikeln und anderen Verunreinigungen zu schützen. Der pneumatische Verschluss ist vollautomatisch und kann schnell geöffnet und geschlossen werden. Die Maschine ist auch mit einer UV-Beleuchtungslampe ausgestattet, mit der die Qualität der Ausrichtung überprüft wird. Ein On-Board-Monitor ermöglicht es dem Bediener, die Ausrichtungsergebnisse zu überprüfen. CANON 501 F ist mit einer zweidimensionalen Motorsteuerung ausgestattet, die eine Hochgeschwindigkeitsausrichtung von Maske und Wafer ermöglicht. Das Motorsteuerungssystem ist genau und seine Reaktionszeit schnell. Die Einheit ist auch in der Lage, die Positionierwiederholbarkeit für enge Ausrichtungstoleranzen durchzuführen. Diese Maschine ist auch in der Lage, eine kontinuierliche Ausrichtung durchzuführen, um die Ausrichtgenauigkeit während des gesamten Prozesses sicherzustellen. 501 F wird zur Ausrichtung von Masken für Metallschichten, Polysiliziumschichten und andere Schichten verwendet, die in ICs verwendet werden. Die Maschine wird bei der Herstellung von Chips wie Applikationsprozessor, Speicherchip und Display-Controller eingesetzt.