Gebraucht CANON MPA 500 Fab #9226312 zu verkaufen

CANON MPA 500 Fab ist ein leistungsfähiger, zuverlässiger Maskenausrichter, der entwickelt wurde, um fortschrittliche Photolithographie-Fähigkeiten im Herstellungsprozess für mikroelektronische Bauelemente wie hochdichte Halbleiterbauelemente bereitzustellen. Es verfügt über eine innovative Substrat-Sauger-Ausrüstung, die eine präzise Handhabung von Substraten ermöglicht und eine extrem genaue, wiederholbare und hochpräzise Photolithographie ermöglicht. Das System ist auch in der Lage, mehrere Schichten von Merkmalen mit einem hohen Grad an Wiederholbarkeit, Toleranz und Ausrichtungsgenauigkeit innerhalb der Design-Hülle anzuwenden. Das in CANON MPA 500FAB verwendete Projektorobjektiv ist eine High-End-Optiklösung, die hervorragende bildgebende Eigenschaften für die Ausrichtgenauigkeit mit Vollfeld- und Feldrand-Bildgebung bietet. Es ist auch in der Lage, spektrale Abbildungen mit Lichtquellen von ultraviolett bis infrarot durchzuführen. Kontinuierliche Pulslaserdiode (CPLD) und Deep Ultra Violet (DUV) Technologien, die in verschiedenen Wellenlängen erhältlich sind, wurden in das Gerät integriert und bieten eine dynamische Belichtungssteuerungsflexibilität. MPA-500FAB verfügt über ein hochpräzises optisches Mikroskop und die neueste Hochgeschwindigkeits-Datenerfassungs- und Bildverarbeitungstechnologie mit geringer Partikelverschmutzungsregelung. Die aktive Luftbildgebung gewährleistet eine präzise Ausrichtung kritischer Prozessgeometrien mit verbesserter Registrierungsgeschwindigkeit und Genauigkeit. Plus, seine fortschrittliche Auto-Fokus-Maschine, ABFR-Lichtquelle und S/W verbessern die Gesamtleistung des Werkzeugs, so dass für höhere Leistung und Zuverlässigkeit. Die in CANON MPA-500FAB verwendete computergestützte Wartungstechnologie (CAM) ermöglicht eine schnelle und einfache Wartung, Wartungserinnerungen und vorausschauende Wartungsfunktionen, um einen ordnungsgemäßen Betrieb sicherzustellen und kritische Schäden durch kurzfristige Fehler während der Produktion zu vermeiden. Darüber hinaus bietet es ein sicheres und optimiertes automatisiertes Access-Asset für die Datenbankverwaltung. Das Modell bietet auch eine neuartige Substrat-Sauger-Ausrüstung, die eine vollständige Vakuumabsorption ermöglicht und mit einer Hand arbeitet, um eine maximale Zuverlässigkeit und Genauigkeit des Substrathandhabungsprozesses zu gewährleisten. Dies wiederum maximiert den Durchsatz sowie die Genauigkeit und Wiederholbarkeit und bietet eine ideale Umgebung für Platzierungs- und Abhebeschritte. Darüber hinaus ermöglicht MPA 500FAB ein breites Spektrum an Prozessfähigkeiten und bietet patentierte Prozessoptionen zur Prozessoptimierung. Zu den Tools gehören Secondary Source Method (SSM) und Match Engine (ME), die Substratbewegungen sehr genau berechnen, sowie Optimized Sequence (OS), die den Zeitverlust beim Maskenaustausch erheblich minimiert. Schließlich bietet das System ein nahezu grenzenloses Spektrum an Anpassungen von Funktionsgrößen, Maskenlayouts und Prozessabläufen für Design-Flexibilität.