Gebraucht CANON MPA 500 Fab #9291905 zu verkaufen

Hersteller
CANON
Modell
MPA 500 Fab
ID: 9291905
Mask aligners Does not include: Illuminators Control boxes Power supplies.
CANON MPA 500 Fab ist ein Masken-Aligner, der in Photolithographieverfahren verwendet wird, die in der Chipherstellung und Nanotechnologie verwendet werden. Basierend auf CANON original skalierbarer Multi-Projection-Aligner-Technologie hat CANON MPA 500FAB eine Auflösung von 1 Mikron, mit der Fähigkeit, eine Chipgröße von bis zu 6-Zoll-Wafern abzudecken. Es verfügt über eine neu gestaltete Ausrichtungsausrüstung, die Anwendern eine verbesserte Genauigkeit bietet, mit einem hochpräzisen linearen Führungssystem und einer Vakuumzentrum-Ausrichtungstechnologie, die die Wärmeausdehnung verringert. Das Gerät verfügt über einen überlegenen Genauigkeitsbereich, mit Geräten mit der Fähigkeit, 2D-Ausrichtungsgenauigkeit im Bereich von 0,1-0,2 Mikrometer für die X- und Y-Achse zu erreichen. MPA-500FAB verwendet UV-Belichtungstechnologie mit mehreren Lichtquellen, um Muster auf die Chipoberfläche zu projizieren, die verwendet wird, um die gewünschte Linienbreite und -details nach Wunsch zu erzeugen. Es verfügt auch über eine optimierte Projektionseinheit, die die Ausrichtungsgenauigkeit erhöht und die Zeit für die korrekte Ausrichtung von Bildern mit Autofokuskapazität und Laserausrichtungsunterstützung reduziert. Darüber hinaus verfügt das Gerät über eine leistungsstarke Motorantriebsmaschine, die weitere Genauigkeit und Wiederholbarkeit im Nanotech-Produktionsprozess ermöglicht. Das Gerät wird durch Funktionen wie Echtzeit-Online-Überwachung des Ausrichtungsprozesses und Belichtungssteuerungsfunktionen, die eine hohe Genauigkeit im Druck- und Maskierungsprozess ermöglichen, weiter verbessert. Es hat auch eine anpassbare Lichtquellenleistung, um das Potenzial für einen höheren Durchsatz und die Kompatibilität mit dem gewünschten Produktherstellungsprozess zu erhöhen. CANON MPA-500FAB wurde entworfen, um die höchsten Anforderungen einer breiten Palette von hochpräzisen Nanotech-Produktionsprozessen zu erfüllen. Mit seiner hochpräzisen Ausrichtungsgenauigkeit, seiner Palette fortschrittlicher Technologien und seiner anpassungsfähigen Leistung ist es die ideale Lösung für Massenproduktionsprozesse, die höchste Genauigkeit und Leistung erfordern.
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