Gebraucht CANON MPA 500FA #293592855 zu verkaufen

Hersteller
CANON
Modell
MPA 500FA
ID: 293592855
Wafergröße: 5"
Weinlese: 1982
Aligner, 5" (2) Accessories packing Lamp power supply Missing parts: CTR Box Conversion kit Generator Air press unit 1982 vintage.
CANON MPA 500FA Mask Aligner ist ein Gerät, das verwendet wird, um die Übertragung von mikroskopischen Mustern von einer Schablone (oder Maske) auf ein zugeordnetes Substrat genau zu verwalten. Es ist ein wesentliches Gerät bei der Herstellung von mikroelektronischen Komponenten und Geräten sowie bei der Herstellung photonischer und mikromechanischer Strukturen. CANON MPA-500FA bietet eine schnelle und präzise Maskenausrichtung mit festen und variablen Schrittgrößen sowie XY und XY Θ Ausrichtung. Es enthält auch eine patentierte Auto Align und Auto MOVE Funktionen für schnelle und zuverlässige Ausrichtung. MPA 500 FA verwendet gebührengekoppelte Geräte (CCDs) für eine verbesserte Ausrichtungsgenauigkeit. Es verfügt auch über ein modernes Kühlsystem, das hilft, thermische Drift und die Notwendigkeit für manuelle Schritte vor-Ausrichtung zu reduzieren. Es ist mit erweiterten Filtrations- und Durchflusssporn-Eliminationsfunktionen ausgelegt, die die Partikelverschmutzung der Maskierungsoberfläche reduzieren. MPA-500FA verfügt über eine empfindliche Waferstufe mit einem Hub von 15mm mal 15mm und ein zuverlässiges Abstandsmesssystem (DMS) von +/-0,02 µm unter Verwendung einer PSD. Es hat eine Stufengeschwindigkeit von 50mm/s und einen Mustergrößenbereich von 1mm bis 20mm mit minimalen Musterschrittgrößen von 0.05mm und bietet eine höhere Genauigkeit während der gesamten Stufen und Maskenausrichtungsprozesse. Darüber hinaus ist CANON MPA 500 FA mit verschiedenen Ausrichtungsmodi ausgestattet, um eine Reihe von eng beabstandeten Mustern, feinen Mustern und sogar ultrafeinen Mustern zu unterstützen. Es bietet auch eine Vielzahl von Belichtungsmodi, einschließlich direkte Dual-Distanz (D2D), Dual Exposure (DE) und Single Exposure (SE). MPA 500FA bietet eine effektive und agile Ausrichtung, um Ihr Designmuster originalgetreu zu übertragen und zu reproduzieren. Es ist zuverlässig, effizient und kostengünstig, so dass es ideal für die Herstellung von großflächigen und kostengünstigen Nano- und Mikrometergeräten ist.
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