Gebraucht CANON MPA 500FA #293592857 zu verkaufen

CANON MPA 500FA ist ein fortschrittlicher Vollfeldmasken-Aligner, der präzise lithographische Fähigkeiten für verschiedene Bereiche wie Optoelektronik, MEMs und ASICs bietet. Diese hochmoderne Ausrüstung ermöglicht eine stabile UV-Belichtung über die gesamte Oberfläche des Substrats. CANON MPA-500FA bietet überlegene Belichtungsgenauigkeit mit einer Gleichmäßigkeit von ± 0,5 mJ/cm2 und ausgezeichnete Wiederholbarkeit für Ausrichtungen. Die erweiterte automatische Druckfunktion passt den Druckmodus automatisch an die Substratgröße an, wodurch die Produktivität erhöht wird. Die schnelle Einstellung ermöglicht eine schnelle und einfache Änderung der Belichtungseinstellungen. Die eingebaute Bildbibliothek ermöglicht darüber hinaus die gleichzeitige Belichtung mehrerer Substrate und maximiert so die Wirtschaftlichkeit. Die Ausrichtungsgenauigkeit wird durch eine fortschrittliche X-Y Stage-Ausrüstung verbessert, wodurch das Risiko einer Fehlausrichtung verringert wird. Dies führt zu einem äußerst präzisen Verfahren mit hoher Ausbeute. MPA 500 FA verfügt über ein hochauflösendes Bildgebungssystem, das eine gleichmäßige Belichtung über das gesamte Substrat ermöglicht. Das Gerät ist in der Lage, Substrate bis 200 mm mit einer hohen Klemmgenauigkeit zu bearbeiten und reduziert das Schütteln durch die aktive Schwingungsreduziermaschine. Das eingebaute Sicherheitswerkzeug bietet Schutz vor Überbelichtung und Oxidation. Der Masken-Aligner ist darüber hinaus mit einem Touch-Panel ausgestattet, das eine intuitive Bedienung mit direkter Leseskala ermöglicht. MPA 500FA bietet zudem Umweltschutz mit hocheffizienten Luftfiltern und Abgasanlagen. Hochleistungs-Halogenidlampen sorgen für stabile Beleuchtung und Homogenität, während ein Hochleistungs-UV-Härtungsverfahren die Härtungszeit abkürzt und den Durchsatz erhöht. CANON MPA 500 FA ist ein idealer Maskenausrichter für Forschungs- und Produktionsanwendungen, der es Anwendern ermöglicht, Hochgeschwindigkeits- und Genauigkeitsdrucke zu erzielen. Das Gerät ist kompatibel mit einer Vielzahl von Substraten, wie Silizium-auf-Saphir, Silizium, Saphir und Glasblöcken.