Gebraucht CANON MPA 500FA #293821331 zu verkaufen

CANON MPA 500FA ist ein leistungsstarker Multigasmasken-Aligner, der sich für fortgeschrittene und großvolumige Photomaskenproduktions-, Forschungs- und Entwicklungs- und bildgebende Anwendungen eignet. Seine Hauptmerkmale umfassen eine 50mm x 50mm bis 500mm x 500mm anwenderwählbare Layoutgröße, mit einer maximalen Wafergröße von 200mm, bis zu dreidimensionaler Registrierung für komplexe Objekte und Autofokusrahmen-Registrierung für eine bessere Ausrichtungsgenauigkeit. Es verfügt auch über einen Muster-Grabber für eine schnellere Konfiguration größerer Bereiche und einen automatischen Probenumschaltmechanismus für einen schnelleren Durchsatz. Seine hochpräzise mehrachsige Stufe ermöglicht die gleichzeitige Schrittsteuerung der KE-Steigung, der Overlay-Genauigkeit und der Rückziehgenauigkeit. Es kann 1,5- μ m Pixelgrößen verarbeiten und bietet einen hohen Durchsatz von 1500 Wafern/Stunde für identische Rahmen. Darüber hinaus bietet es eine hochgenaue Stufenausrichtung, die eine Wiederholbarkeit innerhalb von 1 µm und eine Referenzrahmen-Registriergenauigkeit innerhalb von 0,3 µm gewährleistet. CANON MPA-500FA wurde auch entwickelt, um den Partikelabbau zu reduzieren und die Sauberkeit zu erhöhen. Dies wird durch die selbsttragende Profilgestaltung erreicht, die Substrat- und Photomaskenkomponenten voneinander isoliert. Darüber hinaus erhalten die Mikroblasen in der Tauchflüssigkeit des Musterscanners die Integrität von Mustern und reduzieren mögliche Verzerrungen von Scanergebnissen. MPA 500 FA verwendet CANON proprietäre CANON GIM (Gene Image Metrology) Software, die eine einzigartige Softwarearchitektur bietet, um die Ausrichtungsgenauigkeit, Durchsatzgeschwindigkeit und Messgenauigkeit zu verbessern. Diese Software verfügt über eine integrierte umfassende Bildverarbeitungsbibliothek, die Hunderte von Fehlern überwacht und leistungsstarke Mustererkennungsfunktionen für die Registrierung bietet. Insgesamt ist MPA 500FA mask aligner für Produktions- und Entwicklungsprojekte im Wafer-Maßstab konzipiert und bietet überlegene Präzisionsausrichtungsgenauigkeit, höhere Durchsatzgeschwindigkeiten und bessere Messgenauigkeit. Dies macht es die ideale Wahl für fortgeschrittene und hochvolumige Photomasken-Produktion und Forschung und Entwicklung Anwendungen.