Gebraucht CANON MPA 500FA #9226311 zu verkaufen

CANON MPA 500FA
Hersteller
CANON
Modell
MPA 500FA
ID: 9226311
Wafergröße: 5"
Weinlese: 1995
Aligner, 5" 1995 vintage.
CANON MPA 500FA ist ein hochmoderner Maskenausrichter, der für die Durchführung hochpräziser Lithographie auf einer Vielzahl von Substraten entwickelt wurde. Die Ausrüstung nutzt mehrere einzigartige Eigenschaften einschließlich instufigem Anordnungstechnik, ein schnelllaufender 28nm Schrittentschlossenheit und ein Oblatendickemesssystem aus. Hauptbestandteil von CANON MPA-500FA ist die Ausrichtplatte, die für die Koordinierung der Positionierung und Orientierung der Masken zuständig ist. Die Platte ist mit einer In-Plane-Ausrichtungstechnik ausgelegt, die eine ausgezeichnete Ausrichtgenauigkeit und kurze Ausrichtzeiten ermöglicht. Die Platte verwendet vier prismenförmige Pfosten, um eine präzise Positionierung innerhalb der Waferkammer zu gewährleisten. Für eine zusätzliche Genauigkeit bei der Positionierung der Maske zwischen zwei Pfosten ist ein Zentrierknopf vorgesehen. MPA 500 FA enthält auch einen Waferdickelsensor zur Messung der exakten Dicke des Substrats. Der Sensor ist auf der Ausrichtplatte montiert und kann verwendet werden, um Unregelmäßigkeiten im Substrat, die die Bildklarheit beeinflussen könnten, genau auszugleichen. Zusätzlich bietet das Gerät einen eingebauten Registrierungskorrekturmodus und einen Zwei-Punkte-Registrierungsmodus, der die Einstellung der Maskenausrichtung ermöglicht. MPA 500FA schließt auch eine fortgeschrittene Steindruckverfahrenmaschine ein, die einen schnelllaufenden 28nm Schrittentschlossenheit und ein Howirksamkeitslaser das Mustern des Moduls zeigt. Das fortschrittliche Lithographie-Tool ist auch mit einem hochpräzisen Vektorgenerator und einer Wellenfronterkennung ausgestattet, um kleinere Strukturen mit einem glatteren Bild zu erzeugen, als mit herkömmlichen Lithographiesystemen erreichbar ist. CANON MPA 500 FA ist mit einer Vielzahl von optischen Systemen erhältlich, die an die Bedürfnisse des Benutzers angepasst werden können. Dazu gehören sowohl reflektierende als auch transmissive Optiken, die sowohl für die Kontakt- als auch für die Näherungsbelichtung verwendet werden können. Diese Optik wurde entwickelt, um ein Bild mit ausgezeichneter Genauigkeit, Auflösung und Treue zu erzeugen. MPA-500FA umfasst auch einen hochpräzisen Miniatur-Schrittmotor und ein Getriebe, die präzise und zuverlässige Schrittschaltung bieten. Die gestuften Bilder können mit einem optionalen Mikroskop angesehen werden, das ein erweitertes Sichtfeld bietet. Das Modell wird auch mit einer computergestützten Ausrichtungsausrüstung zur genauen Registrierung zwischen mehreren Schichten geliefert. Insgesamt bietet CANON MPA 500FA Anwendern einen fortschrittlichen Masken-Aligner, der hochpräzise Lithographie, eine In-Plane-Alignment-Technik, ein Wafer-Dicke-Messsystem und eine Vielzahl von Optiken zur Anpassung der Bedürfnisse des Anwenders kombiniert. Das Gerät eignet sich ideal zur Erzeugung hochauflösender Bilder für Halbleiterbauelemente und nanofabrizierte Bauelemente.
Es liegen noch keine Bewertungen vor