Gebraucht CANON MPA 500FA #9226328 zu verkaufen

CANON MPA 500FA ist ein hochpräziser automatischer Maskenausrichter, der ein hochgenaues und wiederholbares Verfahren für die optische Lithographie bietet. Es ist für die Herstellung und Prüfung einer breiten Palette von 3D-Strukturen, einschließlich MEMS, Mikrofluidik und hohe Seitenverhältnisse Mikro- und Nanostrukturen konzipiert. Es hat eine große Arbeitsfläche, bis 200mm x 200mm (7.9 „x 7.9“). Die Ausrichtungsgenauigkeit ist so hoch wie 0.02microns (2nm) für laterale Ausrichtung und 0.15microns für vertikale Ausrichtung. Die Ausrichtungswiederholbarkeit liegt sowohl bei der seitlichen als auch bei der vertikalen Ausrichtung unter 0,01 micron (1 nm). CANON MPA-500FA ist unter anderem für die Ausrichtung von Polyimid-, Chrom- und Goldmasken konzipiert. Die Ausrichtgenauigkeit der Polyimidmaske beträgt 0,03 micron (3 nm). MPA 500 FA verfügt über ein Schwerkraftvorschubsystem, einen Servoantrieb und einen Drehgeber zur präzisen seitlichen und vertikalen Positionierung. Die Ausrichtgenauigkeit wird durch Laserinterferometrie verbessert. CANON MPA 500 FA kann programmiert werden, um mehrere Maskenmuster gleichzeitig auszurichten und kann mit jeder Lichtquelle verwendet werden. MPA 500FA hat eine Lichtquelle mit einem Wellenlängenbereich von 365nm bis 647nm. Die Lichtintensität ist einstellbar und die Belichtungszeit variabel von 0,1 ms bis 1 Minute. Die Belichtung wird von einem TTL-Eingang oder von einem eingebauten monostabilen Gerät ausgelöst. MPA-500FA wird automatisiert und über einen 8-Bit-Mikroprozessor gesteuert. Es hat eine Vielzahl von I/O und Kommunikationsoptionen, wie RS-232, GPIB und Ethernet. Die Maschine ist auch kompatibel mit CANON LMS-III (Laser Micromachining System). Der Belichtungsmodus ist halbautomatisch, wobei Belichtungspegel und Verzögerungen vom Benutzer festgelegt werden. Als optisches Lithographiesystem hat CANON MPA 500FA eine Fokustiefe von 0,15 µm oder besser und kann mit sehr feinen Strukturen umgehen. Seine Auflösung ist höher als die anderer Maskenausrichter, was eine größere Bandbreite an Strukturen ermöglicht. Die Größe der Strukturen, die strukturiert werden können, ist auch größer, so dass grössere Geräte möglich sind. Insgesamt bietet CANON MPA-500FA eine hohe Genauigkeit und Wiederholbarkeit für Maskenausrichtung und optische Lithographie. Es eignet sich für die Herstellung und Prüfung eines großen Bereichs von 3D-Strukturen mit hohem Seitenverhältnis, einschließlich MEMS, Mikrofluidik und Kleingeräten. Es bietet eine ausgezeichnete Auflösung und Tiefe des Fokus, während einfach zu bedienen und zu programmieren.