Gebraucht CANON MPA 500FA #9226335 zu verkaufen

CANON MPA 500FA ist ein fortschrittlicher Maskenausrichter, der speziell für photolithographische Anwendungen entwickelt wurde. Es wird in Halbleiter-Wafer-Herstellungsprozessen wie dem Abscheiden und Ätzen von Materialien verwendet, wodurch komplizierte Muster auf einem Wafer und für andere mikroelektronische Anwendungen. Es hat eine maximale Leistung von 175W und eine maximale Empfindlichkeit von 9,0 μ m. CANON MPA-500FA ist mit fortschrittlichen Präzisionskomponenten wie einem True Focus Scanning Lens und einem Field Alignment Feature ausgestattet. Das True Focus Scanning Lens ist ein Autofokus-Scan-Objektiv, das die Leistung des Strahls maximiert und die Beugung reduziert. Die Feldausrichtungsfunktion stellt sicher, dass das Objektiv unabhängig von der Bewegung auf den Wafer ausgerichtet bleibt und eine konsistentere Belichtung über den Wafer ermöglicht. MPA 500 FA verfügt zudem über eine vollautomatische, mehrachsige Maskenausrichtung. Es verfügt über eine integrierte automatische Belichtungsfunktion, die in der Lage ist, Belichtungen automatisch auf Muster verschiedener Größen und Formen auszurichten. Dadurch entfällt die Notwendigkeit zeitaufwendiger manueller Anpassungen. CANON MPA 500 FA verfügt über ein fortschrittliches Projektionssystem mit automatischer Belichtungssteuerung (AEC). Diese Einheit passt die Belichtung und den Fokus des Strahls entsprechend der Musterkante und dem gesamten Projektionsbereich an. Es verfügt auch über integrierte Bildverarbeitungs- und Musterausrichtungsfunktionen. MPA-500FA verfügt über eine Hochgeschwindigkeitsstrahlablenkmaschine, die die Belichtungszeit reduziert und den Durchsatz erhöht. Sie ist auch in der Lage, sowohl die Ober- als auch die Unterseite des Wafers gleichzeitig zu bearbeiten. MPA 500FA verfügt zudem über ein integriertes Gesamtfehlerschutzwerkzeug. Es überwacht die Anlage in Echtzeit und warnt den Betreiber im Falle einer Störung, um Schäden an der Ausrüstung zu verhindern. Insgesamt ist CANON MPA 500FA ideal für diejenigen, die schnell und präzise Muster auf Halbleiterscheiben erstellen müssen. Es ist in der Lage, Hochgeschwindigkeits- und hochpräzise Maskenausrichtung, und seine automatisierten Funktionen machen es einfach zu bedienen.