Gebraucht CANON MPA 600 FA #293608401 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 293608401
Wafergröße: 6"
Weinlese: 1988
Mask aligner, 6"
Reduction ratio: 1x Scaning
Exposure field: R95 mm
Resolution: 1.8 - 2.0 µm
Focus: ≤ ± 2 µm
Depth focus: ≥ ± 8 um (1.8 ~ 2.0 µm line and space)
Mechanical: Prealignment accuracy: Within Φ 100 um
Illuminator:
Light source: 2.0 kW Super high pressure mercury lamp
Slit: 1.6 mm
Intensity: 450 mW
Uniformity: ≤ ± 3 %
Wafer alignment:
Mode: Manual
Accuracy: ≤ 0.6 µm (3σ)
Scope:
Light resource: LED Type
Erector lens: 1x, 2x, 3x
Scanning mechanism:
Drive unit: Scanning the carriage by DC Motor
Range, 4"-6"
Speed: 5 to 150 sec (25 mm/sec - 0.83 mm/sec)
1988 vintage.
CANON MPA 600 FA ist ein vollautomatischer Masken-Aligner, der zur präzisen Ausrichtung der Photomasken-Funktionen auf die Formfunktionen auf Wafern verwendet wird. Es ist speziell für die Herstellung von integrierten Schaltungen, MEMS, optischen Geräten und 3D-Geräten wie hochdichten Verpackungen und Displays konzipiert. CANON MPA600FA basiert auf einer Immersionsoptik, die eine hochauflösende Abbildung von Mustern bis zu 25 Nanometern ermöglicht. Es verwendet hochpräzise Ausrichtungsstufen für die Positionierung von Wafern und Masken und gewährleistet eine genaue Ausrichtungsgenauigkeit. MPA-600FA hat auch einen integrierten Autofokus für Wafer und Maske, wodurch die Arbeitszeit minimiert wird, die zum Einrichten des Aligners erforderlich ist. MPA 600FA verfügt über einen integrierten Stepper, um die Bearbeitung von Musterüberlagerungen und den 3D-Kompensationsprozess zu ermöglichen. Dies gewährleistet eine hohe Registrierungsgenauigkeit auch bei langen Belichtungszeiten, was eine präzise Ausrichtung von Mustern bis zu 25 Nanometern mit der Registrierungsgenauigkeit des Industriestandards 1:1 ermöglicht. Es bietet auch eine zuverlässige px. fidelity map pattern detection Funktion, die Verschiebungen zwischen Ausrichtgenauigkeitsverschiebung und Referenzgittern zur weiteren Kompensation erkennen kann. MPA600-FA bietet auch eine Bildkorrektureinrichtung zur Musterüberlagerungsscheibe zur Waferausrichtung sowie zur Masken- zur Waferausrichtung. MPA600FA verfügt über ein LED-Bilderzeugungssystem, das Belichtungszeiten von 4 bis 40 Mikrosekunden unterstützt. Damit eignet es sich für die meisten Prozesse von der Mikro- bis zur Nanogeräteherstellung. CANON MPA600-FA bietet zudem eine breite Palette an Beleuchtungs- und Substratbehandlungen, so dass Photomaskenmuster auf die gewünschten Substrate übertragen werden können. Dies ermöglicht langfristige Konsistenz in Gerätemustern und Genauigkeit. CANON MPA-600FA verfügt außerdem über eine Wafer-Messtechnik, die sowohl Wafer- als auch Maskeneigenschaften misst, um sicherzustellen, dass das Gerät die gewünschte Kalibrierung aufweist. Die Einheit umfasst eine hochauflösende Abbildungsmaschine, die mit einer Lichtquelle 2-dimensionale Muster auf der Maske auslesen kann. Diese Technologie ermöglicht die genaue Abbildung von Maskenmustern und führt zu weniger Fehlstellungen des Photomaskenmusters und der Geräteeigenschaften. CANON MPA 600FA ist eine gute Wahl für die Herstellung von hochpräzisen Geräten mit Genauigkeit im Nanometerbereich. Dieses Tool ist für den Einsatz in Produktionseinstellungen mit seinen erweiterten Ausrichtungsstufen, integrierten Autofokus, Muster-Overlay-Bearbeitung und Bildkorrektur-Technologie konzipiert. Es ist zuverlässig, genau und bietet langfristige Konsistenz der Gerätemuster und Genauigkeit.
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