Gebraucht CANON MPA 600 FA #9200847 zu verkaufen

CANON MPA 600 FA ist ein fortschrittlicher Maskenausrichter zur Mikro- und Nanomusterung von Substraten. Es wurde entwickelt, um eine hochpräzise Herstellung von elektronischen Geräten und Nanostruktursubstraten zu ermöglichen. Das Gerät verwendet eine X-Y-Schrittmotor-Antriebseinheit, um ein Substrat mit Nanometer-Steuerung exakt relativ zu einem Retikel (Maske) zu positionieren. Das Retikel ist in einem Glasfutter montiert, das sowohl in X- als auch in Y-Richtung bis zu +/- 18mm verstellbar ist. Ein eingebautes Laserinterferometer misst Submikron-Positionsänderungen des Spannfutters im Vergleich zu bekannten Referenzpunkten. Diese Funktion sorgt für eine extrem genaue Ausrichtung und eine konsistente Registrierung, wodurch das System ideal für kritische Anwendungen ist. CANON MPA600FA verwendet eine fortschrittliche Kontaktbelichtungsmethode, um hochauflösendes Drucken mit einer Mindesteigenschaftsgröße von 0,3 Mikrometern zu gewährleisten. Die fortschrittliche optische Maschine des Geräts ermöglicht variable Fokussierung und einstellbare optische Filter für verbesserte Bildqualität. Der optische Pfad besteht aus Kondensator-, Pupillen- und Objektivlinsen, die alle für eine optimale optische Leistung optimiert und durch Veränderung der Intensität und des Lichtabschnitts während des Belichtungsprozesses modifiziert sind. Der Quarzretikelhalter wurde entwickelt, um Partikelverunreinigungen zu minimieren und Positionierungsfehler für lithografische Bilder höchster Qualität zu minimieren. MPA-600FA ist mit einem speziellen 400W Stickstoffstrahlungsofen ausgestattet, der den Glühprozess während des Mikrostrukturierungsprozesses vereinfacht. Es verwendet eine automatische Temperaturregelung und einen einstellbaren Sauerstofffluss zur präzisen Temperaturprofilierung. Darüber hinaus ist das Werkzeug in der Lage, große Substrate mit einem Durchmesser von bis zu 300 mm zu handhaben. Die Anlage ist mit einem umfassenden Modell-Softwarepaket zur rezeptbasierten Gerätesteuerung ausgestattet. Es vereinfacht die Programmierung und erhöht die Produktivität. Die Software ermöglicht eine automatisierte Ausrichtung, Belichtung und Entwicklung, so dass sich Anwender auf ihre Forschung statt auf langwierigen Systembetrieb konzentrieren können. MPA-600 FA ist ein fortschrittlicher Masken-Aligner, der Nanometer-Präzision und überlegene lithographische Bildqualität bietet. Es ist einfach zu bedienen und kann für eine Vielzahl von Mikro- und Nanomusteranwendungen verwendet werden.