Gebraucht CANON MPA 600 Super #293606918 zu verkaufen

CANON MPA 600 Super ist ein fortschrittlicher Maskenausrichter, der bei der Herstellung integrierter Schaltungen verwendet wird. Es ist in der Lage, eine breite Palette von Materialien mit einer hohen Präzision auszurichten. Zu den Funktionen, die CANON so leistungsstark MPA600SUPER, gehören ein Mikroscanner mit einer Auflösung von 5 Nanometern, mehrere Belichtungsquellen und eine hochgenaue Registrierungsausrüstung. MPA-600SUPER ist ein vollautomatisches Maskenausrichtungssystem, mit dem verschiedene Arten von Maskenmaterialien wie Metall, Polyimid und Quarz ausgerichtet werden können. Es verwendet einen Mikroskopscanner mit einer Auflösung von 5 Nanometern, der eine genaue Ausrichtung zwischen der Maske und dem Wafer gewährleistet. CANON MPA-600SUPER kann in der Herstellung von verschiedenen Arten von Chips verwendet werden, einschließlich Logik, Speicher und High-Speed-Prozessor-Chips. Es ist sowohl für die Massenproduktion als auch für das Prototyping mit einem Durchsatz von bis zu 25 Wafern pro Stunde konzipiert. Die auf der Maschine verfügbaren Mehrfachbelichtungsquellen, einschließlich einer UV-Lichtquelle, machen es für verschiedene Arten von Lithographieanwendungen geeignet, einschließlich Kontakt-, Projektions- und Front- und Back-End-Prozesse. MPA 600 Super enthält eine geschlossene Registrierungseinheit, die verwendet wird, um die Maske und den Wafer genau auszurichten. Die Registrierungsmaschine besteht aus zwei Sätzen optischer Encoder und einem linearen Encoder, der in Verbindung mit dem Mikroskopscanner arbeitet, um jede Position der Maske und des Wafers relativ zueinander genau zu registrieren. Dadurch wird sichergestellt, dass die Lage der Maske relativ zum Wafer genau ist, was für wiederholbare Lithographievorgänge wesentlich ist. Neben den erweiterten Maskenausrichtungsfunktionen bietet CANON MPA-600 SUPER auch eine Vielzahl weiterer Funktionen wie ein integriertes Belichtungswerkzeug, Autofokus und automatische Kalibrierung sowie ein selbstkorrigierendes Auto-Alignment-Asset. Das Belichtungsmodell kann verwendet werden, um den Wafer schnell und genau den erforderlichen Parametern auszusetzen, während die Autofokus-Ausrüstung hilft, sicherzustellen, dass die Belichtungsparameter kontinuierlich in Übereinstimmung mit der vorgesehenen Belichtung gehalten werden. MPA-600 SUPER kann verwendet werden, um eine breite Palette von Chips in hohen Mengen zu produzieren. Durch seine kompakte Bauweise eignet es sich gut für Forschungs- und Entwicklungsprojekte, da es schnell in einem Labor oder einer Produktionslinie eingesetzt werden kann. Die 5-Nanometer-Auflösung, der hohe Durchsatz und das präzise Ausrichtungssystem machen es zu einer leistungsstarken Maskenausrichtungslösung.