Gebraucht CANON MPA 600 Super #9179483 zu verkaufen

CANON MPA 600 Super ist ein hochpräziser, Hochgeschwindigkeits-Masken-Aligner von CANON. Dieses Gerät wird hauptsächlich für verschiedene Maskeninspektion, Photomasken-Belichtung und Photoresist optische Verarbeitung, wie optische Belichtungsverarbeitung und optische Ausrichtung für Halbleiterbauelementherstellung verwendet. Die Grundstruktur von CANON MPA600SUPER besteht aus vier Hauptteilen: dem optisch laminierten Positionierer, der Master-Slave-Konfiguration, der Beleuchtungseinrichtung und dem Kühlsystem. Es kann in verschiedenen Wafergrößen von 4-Zoll bis 12-Zoll verwendet werden. Der optisch laminierte Positionierer von MPA-600SUPER ist so konzipiert, dass er die Wafer für Prozesse wie Licht, Staub, Kratzer und andere Verunreinigungen fest hält. Es ist mit einer optischen Montagestufe ausgestattet, die eine genaue und präzise Ausrichtung für eine anspruchsvolle optische Lithographie ermöglicht, die für die Herstellung von Halbleiterbauelementen erforderlich ist. Die Master-Slave-Anordnung der Vorrichtung dient zur Steuerung der Bewegung des optisch laminierten Positionierers. Es ist eine fortschrittliche mechanische Steuereinheit, die entwickelt wurde, um den Wafer auch während des Photomasken-Austauschvorgangs extrem genau zu lokalisieren. Diese Präzision gewährleistet die Genauigkeit und Wiederholbarkeit von Prozessschritten. Die in CANON MPA-600SUPER installierte Beleuchtungsmaschine besteht aus hochmotorisierten Xenon-Lampen und DUV Deuterium-Lichtquellen. Die Lichtquelle bietet eine gleichmäßige und reproduzierbare Belichtungsintensität über den gesamten Bereich der Photomaske und ist ideal für auch komplexe Lithographiemuster mit mehreren Auflösungsstufen. Weiterhin ist in die Vorrichtung ein Kühlwerkzeug integriert, um die Temperatur der Plasmakammer im Arbeitsbereich zu halten. Dies hilft, stabile Prozessbedingungen während des gesamten Belichtungsprozesses zu gewährleisten. Insgesamt ist MPA600SUPER ein integriertes Asset, das eine stabile Plattform für Maskeninspektion, Photomaskenbelichtung und Photolithographie-Prozesse bietet. Es ist eine ideale Lösung für die Halbleiterherstellung und Testprozesse.