Gebraucht CANON PLA 500 FA #9105738 zu verkaufen

CANON PLA 500 FA ist ein vollautomatischer Maskenausrichter, der für Anwendungen wie Photolithographie, Photomaske und Dünnschichtverarbeitung entwickelt wurde. Diese Maske Aligner kommt mit mehreren Funktionen, die es eine zuverlässige Wahl in der Halbleiterherstellung Industrie machen ausgestattet. Das bemerkenswerteste Merkmal von CANON PLA 500FA ist seine hohe Genauigkeit. Es ist mit zwei automatischen Ausrichtstufen ausgestattet, die mit einer Präzision von weniger als 0,1 Mikrometer arbeiten. Dadurch können Masken präzise auf Substrate wie Wafer und andere Bauteile mit hoher Genauigkeit ausgerichtet werden. Der Masken-Aligner ist auch mit einer einzigartigen, proprietären automatischen Wafer-Handhabung ausgestattet. Dieses System bietet eine präzise Führung für die präzise Platzierung und Ausrichtung von Wafern in der Maschine. Die Einheit sorgt auch dafür, dass die Wafer völlig frei von Verunreinigungen bleiben. Es ist mit einem Wafergreifer integriert, so dass die Wafer leicht abgeholt und platziert werden können. PLA 500 FA verfügt über eine patentierte optische Ausrichtmaschine, die eine präzise Registrierung der Maske und des Substrats ermöglicht. Das optische Werkzeug ist zur präzisen Genauigkeit mit einem digitalen Controller gekoppelt. Diese Ausstattung ermöglicht auch den Einsatz spezieller Masken mit Low-Profile-Mustern für präzise Maskierung und Lithographie. Der Maskenausrichter kann problemlos in jede Reinraumumgebung integriert werden. Es ist mit einem hocheffizienten Partikelfiltrationsmodell konzipiert und bietet drei Stufen der Reinraumluftfiltration für eine verbesserte Partikelkontrolle. Das Gerät wird auch mit einer antistatischen Beschichtung geliefert, um die Maschinen vor schädlicher elektrischer Streuladung zu schützen und die Zuverlässigkeit der Maschinen zu verbessern. PLA 500FA ist ein zuverlässiger Maskenausrichter zur präzisen Ausrichtung von Substratmasken und ideal für Anwendungen wie Photolithographie, Maskierung und Dünnschichtverarbeitung. Es verfügt über eine hohe Genauigkeit in Kombination mit einem einzigartigen Wafer-Handling-System und eine effiziente Partikelfiltrationseinheit, die für moderne Halbleiterherstellungsanwendungen gut geeignet ist.