Gebraucht CANON PLA 500F #293604246 zu verkaufen

CANON PLA 500F ist ein Masken-Aligner zur Herstellung von Halbleitern. Es soll das Muster von Masken über dem Halbleitersubstrat effizient ausrichten und das Muster genau auf das Substrat übertragen. PLA 500F ist ein hochpräzises Gerät, das ein Vakuum-Rasterelektronenmikroskop (VSEM) verwendet, das ein Siliziumsubstrat genau detektieren kann. Es verwendet auch ein Hochgeschwindigkeits-Scan-Objektiv und ein volles Sichtfeld optisches System für präzise Ausrichtungsleistung. Die XY-Präzision des Maskenhalters von CANON PLA 500F beträgt 2 Mikron und die XY-Auflösung 0,2 Mikron. Außerdem verfügt es über erweiterte Funktionen wie Dual-Pattern-Ausrichtung, True Overlay und Low-Finne-Pitch-Ausrichtungen für einen präzisen Maskierungsprozess. Das VSEM hat eine Auflösung von 50 Nanometern und einen Größenbereich von 200-500 Mikrometern. Der verwendete Antriebsmotor kann eine Höchstgeschwindigkeit von 80 Mikrostufen/s erreichen. PLA 500F verfügt über ein integriertes Steuerungssystem, bestehend aus einer Windows-basierten GUI, einer einfachen PC-Kommunikationsschnittstelle und einer intuitiven Steuerungssoftware. CANON PLA 500F kommt auch mit einem Hochgeschwindigkeits-Elektromagneten mit einem Betriebsbereich von 0,3 bis 1000 G. PLA 500F verwendet proprietäre Algorithmen und Techniken, um eine präzise und genaue Ausrichtung ohne Kompromisse bei der Geschwindigkeit oder Genauigkeit zu bieten. Dies macht es ideal für die präzise Ausrichtung von Durchgangslöchern, CMP-Vias und kleinen lokalen Schichten. CANON PLA 500F unterstützt auch eine Vielzahl von Software, einschließlich Lithographie-Software und Bildbibliotheken. Darüber hinaus ist PLA 500F mit einer fortgeschrittenen Vakuumkammer ausgestattet, die auf Niederdruck gefüllt und für Gefahrstoffe zertifiziert ist. Es ist auch mit einem fortschrittlichen Kühlsystem ausgestattet, das gewährleistet, dass die Temperatur für Präzisionsausrichtungen konstant bleibt. CANON PLA 500F ist ein zuverlässiges und präzises Werkzeug zum Ausrichten von Masken und für die Herstellung präziser Halbleiterprodukte unerlässlich. Es ist eine ausgezeichnete Wahl sowohl für neue Technologien als auch für alte Fertigungsanforderungen.