Gebraucht CANON PLA 501 F #163560 zu verkaufen

CANON PLA 501 F ist ein hochpräziser, kostengünstiger Maskenausrichter für die Submikronlithographie. Es wurde entwickelt, um ausgezeichnete bildgebende Qualität und hohe Erträge für kleine Strukturen auch bei kleinen Fehlstellungen zu bieten. Das Gerät verfügt über ein hocheffizientes Bildbelichtungssystem, das eine hochauflösende Belichtung des auszurichtenden und zu übertragenden Musters erzeugt und eine hohe Präzision des Submikronlithographieverfahrens ermöglicht. Die Belichtungseinheit verwendet einen erweiterten optischen Belichtungskopf, der die Projektionen der Muster automatisch optimiert. Dazu gehören die Neigung des Strahls, die Vergrößerung der Belichtung und der Belichtungsbereich. Durch die im Belichtungskopf befindliche optimierte pupillenkonjugierte Optik wird der Belichtungspegel und die Bildqualität weiter verbessert. Der präzise entworfene optische Ausrichter führt eine präzise Ausrichtung und Registrierung der Muster mit minimalen Fehlausrichtungsfehlern durch. Durch die Verwendung eines fortschrittlichen Resistmonitors kann die Maschine para-axiale und/oder Mustertransformationseffekte kompensieren. Zusätzlich enthält das Tool ein Alignment-Asset, das mit einem einzigartigen Piezo-Übersetzer ausgestattet ist, der eine hohe Genauigkeit der Ausrichtung ermöglicht. Um die Genauigkeit weiter zu erhöhen, umfasst das Modell eine automatisierte Ausrichtungsoptimierungseinrichtung (AOS), die einen dedizierten Bildprozessor verwendet, um die bestmögliche Ausrichtung der Registrierung zu bestimmen. Der Masken-Aligner enthält auch ein hochpräzises Ausrichtungssystem, das die höchste Genauigkeit von 0,25 Mikron Ausrichtung unterstützen kann. Dieses hochgenaue Ausrichtungsmerkmal ermöglicht eine bessere Übertragung der montierten Gerätemuster auf das Substrat, wodurch bessere Ausbeute und feinere Muster bei hoher Auflösung erzeugt werden. Die Einheit kann auch für parallele Prozesse verwendet werden, die den Durchsatz erhöhen und die Zykluszeit für Submikronlithographie-Prozesse reduzieren können. CANON PLA-501F bietet verbesserte Ergonomie und Automatisierung bei schnellerem Betrieb. Es umfasst auch eine eingebaute Lüftereinheit zur Reduzierung der Staubpartikel, was zu einer besseren Ausrichtung und zu keiner weiteren manuellen Reinigung des Ausrichters führt. Darüber hinaus bietet die Maschine mehrere Softwarefunktionen, die bequem konfiguriert werden können, um die lithografischen Informationen zu speichern. Dies kann dem Benutzer helfen, sich schnell auf den Prozess vorzubereiten und die Vorlaufzeit zu minimieren. Abschließend ist PLA 501F eine ausgezeichnete Wahl für die Submikronlithographie, die präzise Ausrichtungsgenauigkeit, zufriedenstellende Bildqualität und verbesserte Automatisierung bietet. Es bietet eine kostengünstige Lösung, die hohe Erträge bei minimalen Fehleinstellungsfehlern liefert.