Gebraucht CANON PLA 501 F #293591834 zu verkaufen

CANON PLA 501 F ist ein hochmoderner Masken-Aligner für Anwendungen in Halbleiterbauelement und IC-Fertigung. Es bietet eine Reihe von Merkmalen und Leistungsmerkmalen, die es zu einer idealen Wahl für Fertigungsprozesse machen, einschließlich Photolithographie, Photomaskierung, Ätzen und vieles mehr. CANON PLA-501F ist für eine effiziente Geräte- und IC-Produktion mit einem großen Arbeitsbereich, einer schnellen Ausrichtungsrate und einer präzisen und wiederholbaren Ausrichtungsgenauigkeit konzipiert. Das Gerät verwendet einen Hochleistungs-Ausrichtungslaser und beinhaltet eine vollständige Abtastbewegung zur ultraschnellen Ausrichtung und verfügt über einen Fokus-Fehler-Detektor mit geschlossener Schleife, der jedes Mal genaue Ergebnisse gewährleistet. PLA 501F unterstützt Photomaskengrößen bis 8 „x 10“, und der große Arbeitsbereich des Systems ermöglicht flexible Design- und Werkzeugoptionen. Das Gerät hat eine schnelle, präzise Ausrichtungsrate von bis zu 1.200 Wafern pro Stunde und eine Ausrichtungsgenauigkeit von ± 7 µm (± 1 µm innerhalb von 10 µm Feld) bei einer Maskensteigung von 1,5 µm. CANON PLA 501F bietet hochwertige Ergebnisse mit einer Expositionsquantifizierung von 0,1 µm Präzision. PLA-501F bietet auch variable Belichtungszeit und mehrere Auflösungsstufen für verschiedene Maskenmuster, um hohe Belichtungsqualität und Zuverlässigkeit zu erzeugen. Darüber hinaus verfügt die Maschine über erweiterte Funktionen wie statische Ausrichtung und die Möglichkeit, verschiedene Maskenhöhen, Dicken und Größen aufzunehmen. PLA 501 F verfügt auch über eine Steuerschnittstelle, mit der Benutzer Layouts, Parameter und mehr anpassen und festlegen können. Schließlich integriert CANON PLA 501 F auch Dienstleistungen wie Maske Pre-Aligner Datenübertragung, End-of-Line-Bewertung und Post-Exposure-Tool-Verifizierung, um optimale Ergebnisse für Fertigungsprozesse zu gewährleisten. Kurz gesagt, CANON PLA-501F ist ein leistungsstarker und zuverlässiger Maskenausrichter mit hoher Qualität, schnellen Ausrichtungsraten und flexiblen Arbeitsbereichsoptionen. Es ist eine ideale Wahl für verschiedene Photolithographie, Photomaskierung, Ätzen und andere Geräte und IC-Herstellungsprozesse.