Gebraucht CANON PLA 501 F #293615023 zu verkaufen

CANON PLA 501 F ist ein hochpräziser Maskenausrichter, der die Übertragung feiner Muster auf eine Vielzahl von Substraten, einschließlich Halbleiter-Feldeffekttransistoren (FETs), erleichtert. Dieser fortschrittliche Masken-Aligner eignet sich besonders für photolithographische Anwendungen, wie z.B. Leiterplatten, Kontaktbeschichtungen, Instantklebstoffe und mehr. CANON PLA-501F verfügt über eine leistungsstarke motorisierte Etappe, die sich sowohl in X- als auch in Y-Richtung mit großer Präzision und Wiederholbarkeit bewegen kann. Diese Stufe ermöglicht es dem Benutzer, das Substrat zu bewegen, das schneller und genauer als je zuvor gemustert werden muss. Das Belichtungssystem des Maskenausrichters von CANON ist ebenfalls sehr fortgeschritten und verfügt über zwei verschiedene UV-Lichtquellen. Die Beleuchtungslichtquelle besteht aus Halogenlampen und Halogenquadrat-Lampen mit einer Wellenlänge von 365nm. Dadurch wird sichergestellt, dass die Lichtintensität für die Musterübertragung optimal ist. Der Maskenausrichter verwendet auch ein fiducial Ausrichtungssystem, so dass es das Substrat und die Maske mit hoher Wiederholbarkeit genau ausrichten kann. PLA 501F bietet extreme Positioniergenauigkeit und Auflösung. Es ist in der Lage, eine Positionsgenauigkeit von ± 0,7 Mikrometer beim Mustern von Substraten mit 25 Mikrometer Merkmalen oder kleiner zu erreichen. Der Abstand zwischen zwei Punkten eines Musters kann auch mit einer hohen Genauigkeit von ± 2,0 Mikrometern wiedergegeben werden. CANON PLA 501F verfügt über mehrere Sicherheitsmerkmale, wie eine Luftfeuchtigkeitsanzeige, einen Filter, der Ozon und andere flüchtige organische Verbindungen (VOCs) aus der Luft entfernt, und einen Not-Aus-Schalter. Es verfügt auch über ein ergonomisches Design, das eine einfache Bedienung und Wartung ermöglicht. Abschließend ist PLA 501 F ein fortschrittlicher Masken-Aligner, der in der Lage ist, präzise und effizient Muster hoher Treue auf eine breite Palette von Substraten zu übertragen. Seine fortschrittlichen Eigenschaften machen es zu einer idealen Wahl für präzise Photolithographie-Anwendungen.