Gebraucht CANON PLA 501 F #66342 zu verkaufen

CANON PLA 501 F ist ein hochpräziser Maskenausrichter für photolithographische Halbleiterbauelemente. Es wurde entwickelt, um die Genauigkeit der Photoresist-Strukturierung von +/-1,0 μ m oder besser zu erreichen und verarbeitet DUV, NUV und i-line resists. Dieser hochzuverlässige Präzisionsausrichter bietet eine hohe Auflösung und Integration für eine breite Palette von Halbleiterbauelementen. CANON PLA-501F hat einen Tieftemperaturbereich von -20 bis + 350 Grad Celsius und eignet sich somit gut für temperaturempfindliche Prozesse. Der Aligner verwendet ein Laser-Interferometer und eine Präzisions-Vakuum-Waferstufe, die ultrafeine Ausrichtungsgenauigkeit und schnelle Ausrichtungsgeschwindigkeit ermöglicht. Es verwendet ein eingebautes Echtzeit-Fehlerinspektionssystem mit einer hohen Vergrößerungsoption und einem automatisierten Maskenhandhabungssystem, das schnelles Be- und Entladen von Masken ermöglicht. PLA 501F ist mit einer fortschrittlichen Computerbenutzeroberfläche und einer umfassenden Palette integrierter Software ausgestattet, die automatische Ausrichtung, Musterglättung, Simulationsschatten-Inspektion und Kalibrierfähigkeit bietet. Diese Maske aligner unterstützt eine Vielzahl von Datenformaten, einschließlich AutoCAD DXF, Gerber und WSY-Dateien, sowie OPL (Optical Proximity Layout) OPL und OPLX. Kompatibel mit den gängigsten Photolithographiesystemen bietet PLA 501 F eine hervorragende Ausrichtungsgenauigkeit für eine Vielzahl von Produktionsprozessen. CANON PLA 501F hat einen hohen Durchsatz, so dass es für kleine und große Produktion geeignet ist. Es hat niedrige Betriebskosten, einschließlich minimaler Wartung und geringer Stromverbrauch. PLA-501F kommt mit einer vielseitigen Palette von Zubehör, die es ermöglicht, entweder für manuelle oder automatisierte Prozesse verwendet werden, die Benutzerfreundlichkeit und Prozessoptimierung des Systems zu erhöhen. CANON PLA 501 F ist auf Flexibilität, Genauigkeit und Effizienz ausgelegt. Seine robuste Konstruktion und Zuverlässigkeit, gepaart mit seiner präzisen Ausrichtung, macht es zu einer guten Wahl für photolithographische Prozesse. Mit seinem breiten Spektrum an Funktionen und Prozessfähigkeit ist CANON PLA-501F ein marktführender Maskenausrichter, der präzise Ergebnisse in einem kostengünstigen Paket gewährleistet.